磁控濺射真空鍍膜MEMS真空鍍膜加工平臺——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟社會發(fā)展的實際需要，從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

隨著人們生活水平的提高，對物品表面的美觀性提出的要求逐漸走高。因此，磁控濺射真空鍍膜已經(jīng)被廣泛的應(yīng)用于各種塑料、陶瓷、玻璃、蠟、木材等制品的表面金屬化的生產(chǎn)過程中。可以想見，磁控濺射真空鍍膜技術(shù)在未來對于以環(huán)保為主的工藝生產(chǎn)會有更加廣闊的發(fā)展前景，開拓出更加廣闊的市場。

磁控濺射真空鍍膜工藝具備它自身獨有的一些特點：可以多層鍍膜，例如二層膜，三層膜等，更換金屬靶材就可以獲得不同品種的產(chǎn)品，如熱反射玻璃、低輻射玻璃等。采用磁控濺射真空鍍膜這種方法生產(chǎn)的產(chǎn)品鍍膜膜層均因牢固、色澤美觀且品種繁多，產(chǎn)品范圍十分的廣泛。產(chǎn)量也可大可小，可以按照客戶加工所需的質(zhì)量和數(shù)量進(jìn)行靈活調(diào)整，同時保證質(zhì)量和數(shù)量，生命力強，是其他方法暫時無法達(dá)到的一個工藝方法。

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在對純度為99.9%的銅濺射靶材的研究中，發(fā)現(xiàn)在制備Cu靶材時不可避免地會引入硫和鉛。微量S的加入可以防止熱加工時晶粒尺寸變大和微裂紋產(chǎn)生使表面粗糙。但是，當(dāng)S的含量高于18ppm時，會再次出現(xiàn)微裂紋。隨著S和Pb含量的增加，裂紋數(shù)量和電弧放電次數(shù)增加。因此，應(yīng)盡量減少靶材中的雜質(zhì)含量。減少濺射薄膜的污染源，磁控濺射真空鍍膜加工廠，提高薄膜的均勻性。

濺射靶材制備工藝條件的控制

對于熱導(dǎo)率較差的靶材，例如硅鋁濺射靶材，天河磁控濺射真空鍍膜，往往會因為靶材中的雜質(zhì)而阻礙熱傳遞。生產(chǎn)中使用的冷卻水溫度與鍍膜線實際水溫存在差異，導(dǎo)致使用過程中靶材開裂。一般來說，輕微的裂紋不會對鍍膜生產(chǎn)產(chǎn)生很大的影響。但當(dāng)靶材有明顯裂紋時，電荷很容易集中在裂紋邊緣，導(dǎo)致靶材表面異常放電。放電會導(dǎo)致落渣、成膜異常、產(chǎn)品報廢增加。因此，在靶材制備和控制純度的過程中，還要控制制備工藝條件。

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磁控濺射真空鍍膜的具體方法是在真空條件下電離惰性氣體， 氣體離子在電場的作用下 ，磁控濺射真空鍍膜加工平臺， 轟擊金屬靶材使金屬原子沉積到玻璃表面上。它是七十年代末期發(fā)展起來的一種先進(jìn)的工藝方法，膜層由多層金屬或金屬氧化層組成， 允許任意調(diào)節(jié)能量通過率、能量反射率， 具有良好的外觀美學(xué)效果， 它克服了其它生產(chǎn)方法存在的一些缺點， 因而目前國際上廣泛采用這一方法。磁控濺射是一種新型的高速、低溫濺射鍍膜方法， 它是在專門的真空設(shè)備中， 借助于高壓直線濺射裝置進(jìn)行的。磁控濺射鍍膜工藝的原理是: 將玻璃送入設(shè)有磁控陰極和濺射氣體的真空室內(nèi)，陰極加負(fù)電壓，在真空室內(nèi)輝光放電，產(chǎn)生等離子體。由于金屬靶材帶負(fù)電，等離子中帶正電的氣體離子被加速，并以相當(dāng)于靶極位降U的能量沖擊靶面，將金屬靶的原子轟出來，使之沉淀在玻璃表面形成金屬膜。

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天河磁控濺射真空鍍膜-半導(dǎo)體材料-磁控濺射真空鍍膜加工廠由廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所提供。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是從事“深硅刻蝕,真空鍍膜,磁控濺射,材料刻蝕,紫外光刻”的企業(yè)，公司秉承“誠信經(jīng)營，用心服務(wù)”的理念，為您提供更好的產(chǎn)品和服務(wù)。歡迎來電咨詢！聯(lián)系人：曾經(jīng)理。