等離子拋光的三個主要優(yōu)點是成本更低，該過程更環(huán)保，不銹鋼等離子拋光工藝，并且具有該技術(shù)獨有的表面下?lián)p傷去除效果。等離子拋光晶圓與CMP晶圓比較而言，一直到二極管和MOSFET器件生成，完整的晶圓電氣性能和良率結(jié)果已經(jīng)與CMP相當(dāng)（圖1）。

等離子拋光劑不使用消耗性有毒漿料，因此避免了相關(guān)的處置問題和高用水量，消除這些工藝要求可以將運營成本降低多達85%。此外，不銹鋼等離子拋光價格，該步驟上游的材料要求不需要改變，之后的工藝也看不到等離子拋光晶圓和CMP晶圓之間的差異。

不銹鋼等離子拋光

等離子拋光技術(shù)在領(lǐng)域的應(yīng)用

超精密拋光工藝在現(xiàn)代制造中有著重要的地位，不銹鋼等離子拋光加工廠家，其應(yīng)用的領(lǐng)域涵蓋：集成電路制造、數(shù)碼配件、精密模具、航工航天及。

不銹鋼等離子拋光

等離子拋光應(yīng)用領(lǐng)域及拋光效果

  3C電子、 運動器材、汽車配件、器材、潔具餐具、手表飾品、模具、航空航天，該技術(shù)主要用于對不銹鋼、銅合金、鈦合金、低碳鋼等金屬零部件的拋光、去毛刺，可以解決航天領(lǐng)域中諸如閥體去毛刺等世界難題。

等離子拋光的原理

  等離子拋光是一種“綠色”高質(zhì)的拋光金屬工件的特種加工方法，通過在工件和拋光液之間形成的氣層的放電去除作用實現(xiàn)對工件拋光。其拋光液為低濃度的鹽溶液，湛江不銹鋼等離子拋光，并可通過補充拋光鹽而循環(huán)使用，能夠解決機械拋光難于加工形狀復(fù)雜工件的問題，也可以解決化學(xué)和電解拋光難以避免的污染問題。溶液不參加化學(xué)反應(yīng)，成本低，與傳統(tǒng)的化學(xué)電解拋光相比，成本非常低。等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi)，因此等離子化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

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