鍍膜機(jī)廠家介紹光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)控方法較多，目前較新的方法是光學(xué)監(jiān)控法，其相對(duì)于的傳統(tǒng)的石英晶體微量平衡法來(lái)說(shuō)，光學(xué)監(jiān)控法更具有準(zhǔn)確性，因?yàn)閭鹘y(tǒng)的測(cè)試的方法很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機(jī)廠家就來(lái)為大家介紹一些光學(xué)監(jiān)控法的特點(diǎn)。

光學(xué)監(jiān)控法可以有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)，光學(xué)監(jiān)控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。能夠更準(zhǔn)確地控制膜層厚度 。

上述所說(shuō)就是鍍膜機(jī)廠家為大家介紹的光學(xué)監(jiān)控法的一些特點(diǎn)，而從中我們不難看出光學(xué)監(jiān)控相比傳統(tǒng)的監(jiān)控法來(lái)說(shuō)是一種更適合對(duì)真空鍍膜機(jī)膜厚的監(jiān)測(cè)方法。

真空電鍍機(jī)灰塵處理方式

真空電鍍機(jī)應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是必不可少的一項(xiàng)技術(shù)。但是真空電鍍機(jī)在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì)留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果，那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

我國(guó)真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)狀分析

1.設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2.設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。

3.真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。

4.真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。

5.真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。

6.工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有專(zhuān)門(mén)的服裝。

CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(jī)（真空電鍍機(jī)系列）

由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空電鍍機(jī)中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

磁控濺射鍍膜設(shè)備濺射方式

繞鍍能力強(qiáng)

離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著電力線方向運(yùn)動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復(fù)零件上的內(nèi)孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內(nèi)孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機(jī)，能夠沿著規(guī)定的航線飛抵其活動(dòng)半徑范圍內(nèi)的任何地方。