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玻璃鍍膜機發(fā)展前景
近年來,無線充電功能在行業(yè)中不斷發(fā)酵,3D熱彎玻璃開始在手機電池后蓋背板上快速得到應用,玻璃鍍膜機也跟隨著3D熱彎玻璃發(fā)酵,而被廣告商家認可,銷量也快速上升。設計3D熱彎玻璃后蓋炫麗的效果,離不開光學玻璃鍍膜機的使用。
據(jù)聽說,目前行業(yè)的3D熱彎玻璃蓋板主要以應用在電池后蓋蓋板為主。目前國內(nèi)全行業(yè)擁有的3D玻璃蓋板產(chǎn)能已突破3億片,即每天有超過100萬片的3D前后蓋板玻璃供應到市場上,不過其中絕大部分都應用在了電池后蓋上。
隨著后續(xù)的3D玻璃后蓋供應鏈反應速度加快,也帶動了整個玻璃鍍膜機械行業(yè)的發(fā)展,玻璃鍍膜機的相關設備銷量也大幅度提升。為了滿足市場需求和得到與眾不同的裝蝕效果,各品牌都依具自己的智能手機藝術表現(xiàn)方式,設計了不同的色系與色彩展現(xiàn)方式,以此突破傳統(tǒng)的設計方式,吸引眼球,充分滿足消費者追求。
3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品設計有了新的突破,但是它的加工工藝卻是十分的復雜。蓋板廠高在加工有些3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品的時候,需要通過多層光學鍍膜與紋理轉印工藝,再通過不同的組合嘗試放置在3D玻璃蓋板或樹脂防爆膜的不同層上來實現(xiàn),因此加工工藝十分復雜不說,占用的加工時間也很長。3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品形成,離不開玻璃鍍膜機為其運轉加工鍍膜,可以說在產(chǎn)品形成的整個流程中,起著至關重要的作用。
隨著3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品脫穎而出,也被大眾所認可,3D熱彎玻璃也將進入一個新趨勢,未來的前景不可小覷。因此也帶動了整個行業(yè)鏈的發(fā)展。
真空磁控濺射鍍膜機常見問題和原理,有多少人知道
真空磁控濺射鍍膜機,是目前鍍膜行業(yè)用得廣泛的真空設備,隨著行業(yè)的發(fā)展,各種類型的真空磁控濺射鍍膜機也在逐漸出現(xiàn)。但是大部分人,并不了解真空磁控濺射鍍膜機的工作原理。真空磁控濺射鍍膜機主要是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。真空設備也分好多類型和型號,比喻:磁控濺射鍍膜機、不銹鋼鍍膜機、蒸發(fā)鍍膜機,種類不一樣,用途不一樣,型號也就不一樣,但是它們的工作原理是相通和類似的,下面為真空小編為大家詳細的講解一下真空磁控濺射鍍膜機的原理和常見問題,便于后期大家在采購鍍膜機的時候,方便溝通和交流,碰到常見的一些問題,也能自己及時處理,不至于消耗太多不必要的時間。
真空磁控濺射鍍膜機真空主體是真空腔,他是根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應用多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼'target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。
真空鍍膜設備對底涂層需求及應用
真空磁控濺射鍍膜機現(xiàn)已經(jīng)成為生活中不可或缺的一部分,為生活添加了一份光彩,真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支,它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發(fā),理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有離子鍍、束流沉積鍍,蒸發(fā)鍍、濺射鍍、以及分子束外延等。此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學性能的話,這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分
在電子學方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。
真空鍍膜機蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能
嚴格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的,因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能,從而影響半導體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說,它的工作電壓高,電流大,沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高,易燒毀。對于一般的半導體器件,Al層偏薄,則膜的連續(xù)性較差,呈島狀或網(wǎng)狀結構,引起壓焊引線困難,造成不易壓焊或壓焊不牢,從而影響成品率;Al層過厚,引起光刻時圖形看不清,造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機電子束蒸發(fā),行星機構在沉積薄膜時均勻轉動,各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機構的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處,各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機磁控濺射鍍膜方法,由于沉積電流和靶電壓可以控制,也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制,因此膜厚的可控性和重復性較好,并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。