五金真空uv鍍加工廠家武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務(wù)的廠家，主要鍍膜產(chǎn)品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據(jù)客戶的產(chǎn)品進(jìn)行設(shè)計(jì)和定制。

恒緣鈦金與您分享反射膜

反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜，功能是增加光學(xué)表面的反射率。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。恒緣鈦金與您分享不銹鋼表面之鏡面處理不銹鋼的鏡面處理，簡(jiǎn)單來講就是對(duì)不銹鋼表面進(jìn)行拋光，拋光手法分為物理拋光和化學(xué)拋光。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。

金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長(zhǎng)范圍寬；缺點(diǎn)是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(zhǎng)(或者某一波區(qū))的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。粉末噴涂是用噴粉設(shè)備（靜電噴塑機(jī)）把粉末涂料噴涂到工件的表面，在靜電作用下，粉末會(huì)均勻的吸附于工件表面，形成粉狀的涂層電鍍是利用電解原理在某些金屬或其它材料制件的表面鍍上一薄層其它金屬或合金的過程。

恒緣鈦金與您分享鍍 鉻

鉻是銀白色金屬，由于其表面能生成天然致密的極透明的膜層，因而總能保持其白亮的顏色，并且可以獲得全光亮的鏡面光澤。

這使得鍍鉻在機(jī)械、電子、El用五金等所有金屬或非金屬的裝飾性電鍍中獲得了非常廣泛的應(yīng)用。

鉻的元素符號(hào)是Cr，原子序數(shù)24，原子量52，相對(duì)密度7.2，熔點(diǎn)1890℃，化合價(jià)為2、4、6。標(biāo)準(zhǔn)電極電位為一0.74V(Cr抖/Cr)，但由六價(jià)鉻還原為三價(jià)鉻的標(biāo)準(zhǔn)電位則很正，為 1.33V(Cr6 /Cr3 )，由于鍍鉻的電化學(xué)還原是分步進(jìn)行的，控制速度的是三價(jià)鉻還原為金屬鉻的過程，因此鍍鉻的標(biāo)準(zhǔn)電位取前者。對(duì)基體制約少、損傷小，因此特別適合用于要求耐磨損性、耐崩刃性的刀具，也適用于要求鋒利刃口的低進(jìn)給加工與精加工或螺紋加工工具等。

金屬鉻硬而且脆，但化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，在空氣中，包括潮濕環(huán)境中都很穩(wěn)定，鉻在鹽酸中溶解。除了大量用于裝飾性電鍍和耐磨性鍍層，鉻也用來制作合金，特別是不銹鋼等。

鍍鉻主要是在較高濃度的鉻酸溶液中進(jìn)行的，標(biāo)準(zhǔn)的鍍鉻液含有鉻酸2509/L，硫酸2.59/L。由于鉻酸是嚴(yán)重污染環(huán)境的化學(xué)品，它的使用已經(jīng)受到嚴(yán)格限制。

因此，一些低濃度鍍鉻技術(shù)或代鉻電鍍技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生，但是要全l面取代現(xiàn)在的鍍鉻工藝，還需要假以時(shí)日。

據(jù)說，由于三價(jià)鉻的毒性只是六價(jià)鉻的百分之一，因此，現(xiàn)在三價(jià)鍍鉻開始較廣泛使用。但是目前主要是用在裝飾性電鍍上，且色澤與傳統(tǒng)的六價(jià)鍍鉻稍有差異。

目前流行的代鉻鍍層是三元合金代鉻。即錫鉆鋅三元合金代鉻鍍層。

這種工藝也是用作裝飾性代鉻，可以獲得與鉻色非常接近的鍍層，用于這一工藝的代鉻一90添加劑，已經(jīng)在日用五金的電鍍中獲得廣泛應(yīng)用。

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薄膜厚度的測(cè)量

隨著科技的進(jìn)步和精密儀器的應(yīng)用，薄膜厚度測(cè)量方法有很多，按照測(cè)量的方式分可以分為兩類：直接測(cè)量和間接測(cè)量。直接測(cè)量指應(yīng)用測(cè)量?jī)x器，通過接觸（或光接觸）直接感應(yīng)出薄膜的厚度。

常見的直接法測(cè)量有：螺旋測(cè)微法、精密輪廓掃描法（臺(tái)階法）、掃描電子顯微法（SEM）；

間接測(cè)量指根據(jù)一定對(duì)應(yīng)的物理關(guān)系，將相關(guān)的物理量經(jīng)過計(jì)算轉(zhuǎn)化為薄膜的厚度，從而達(dá)到測(cè)量薄膜厚度的目的。

常見的間接法測(cè)量有：稱量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測(cè)量的原理可分為三類：稱量法、電學(xué)法、光學(xué)法。

常見的稱量法有：天平法、石英法、原子數(shù)測(cè)定法；

常見的電學(xué)法有：電阻法、電容法、渦流法；

常見的光學(xué)方法有：等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。

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真空蒸鍍，簡(jiǎn)稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù)，具有成膜方法簡(jiǎn)單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能獨(dú)特等優(yōu)點(diǎn)。燒藍(lán)是將整個(gè)胎體填滿色釉后，再拿到爐溫大約800℃的高爐中烘燒，色釉由砂粒狀固體熔化為液體，待冷卻后成為固著在胎體上的絢麗的色釉，此時(shí)色釉低于銅絲高度，所以得再填一次色釉，再經(jīng)燒結(jié)，一般要連續(xù)四五次，直至將紋樣內(nèi)填到與掐絲紋相平。

蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核、長(zhǎng)大成固體薄膜→薄膜原子重構(gòu)或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。

將基片放入真空室內(nèi)，以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料，使膜料蒸發(fā)或升華，氣化為具有一定能量（0.1～0.3ev）的粒子（原子、分子或原子團(tuán)）。氣態(tài)粒子以基本無碰撞的直線運(yùn)動(dòng)飛速傳送至基片，到達(dá)基片表面的粒子一部分被反射，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴(kuò)散，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞，形成簇團(tuán)，有的可能在表面短時(shí)停留后又蒸發(fā)。粒子簇團(tuán)不斷地與擴(kuò)散粒子相碰撞，或吸附單粒子，或放出單粒子。此過程反復(fù)進(jìn)行，當(dāng)聚集的粒子數(shù)超過某一臨界值時(shí)就變?yōu)榉€(wěn)定的核，再繼續(xù)吸附擴(kuò)散粒子而逐步長(zhǎng)大，終通過相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并，形成連續(xù)薄膜。通過UV底漆增強(qiáng)鍍膜的附著力，有利于獲得光滑平整的鏡面效果，展現(xiàn)出更優(yōu)異的反射效果和力學(xué)性能。膜方法簡(jiǎn)單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能獨(dú)特等優(yōu)點(diǎn)。