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PVD真空鍍層按照膜層應(yīng)用來(lái)分類可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層:
裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕;硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數(shù),提高工件的使用壽命。
除油—去污—流水沖洗—去離子水沖洗—脫水
過(guò)清洗線后將工件掛到PVD治具上,放入烤箱烘烤干燥
PVD加工特點(diǎn)
1).PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上,對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻,然后才適合鍍PVD,但是水鍍后做PVD容易起泡,不良率較高;
2).典型的 PVD 涂層加工溫度在 250 ℃—450 ℃之間;
3).涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間,一般工藝時(shí)間為 3~6 小時(shí);
4).PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí),厚度較薄,一般為0.3μm~5μm,其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm,因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能,并能夠維持工件尺寸基本不變,鍍后不須再加工;簡(jiǎn)單地說(shuō),就是進(jìn)行了鍍鈦防銹處理,打磨了刃口更鋒利,同時(shí)沖口外側(cè)進(jìn)行了拋光,拔起來(lái)更輕松(鍍鈦后如不打磨,表面光潔度不夠,拔起來(lái)阻力太大,必須要再拋光)。
靶材承受的功率密度是有限的.靶面溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致靶材熔化或引起弧光放電.在直接水冷的情況下,金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2.根據(jù)選定的靶電壓和允許的靶功率密度,即可確定靶電流密度.
降低Ar壓強(qiáng)有利于提高鍍膜速率,還有利于提高膜層結(jié)合力和膜層致密度.磁控濺射的Ar壓強(qiáng)通常選為0.5Pa,氣體放電的阻抗隨Ar壓強(qiáng)的降低而升高.磁控濺射時(shí),可以適當(dāng)調(diào)節(jié)Ar壓強(qiáng),