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發(fā)布時間：2021-07-15 05:54

光刻膠趨勢

半導體光刻膠領域全球市場規(guī)模趨于穩(wěn)定， 2017年全球市場約13.5億美元；國內市場約20.2億元，近5年復合增速達12%。受全球半導體市場復蘇和國內承接產(chǎn)業(yè)轉移，預計全球光刻膠市場將保持穩(wěn)定增速，國內市占率穩(wěn)步抬升。

光刻膠生產(chǎn)、檢測、評價的設備價格昂貴，需要一定前期資本投入；光刻膠企業(yè)通常運營成本較高，下游廠商認證采購時間較長，為在設備、研發(fā)和技術服務上取得競爭優(yōu)勢，需要足夠的中后期資金支持。政策扶持為促進我國光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國家02重大專項給予了大力支持。企業(yè)持續(xù)發(fā)展也需投入較大的資金，光刻膠行業(yè)在資金上存在較高的壁壘，國外光刻膠廠商相對于國內廠商，其公司規(guī)模更大，具有資金和技術優(yōu)勢。

總體上，光刻膠行業(yè)得到國家層面上的政策支持?；瘜W結構特殊、保密性強、用量少、純度要求高、生產(chǎn)工藝復雜、品質要求苛刻，生產(chǎn)、檢測、評價設備投資大，技術需要長期積累?！秶壹呻娐樊a(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》，提出“研發(fā)光刻機、刻蝕機、離子注入機等關鍵設備，開發(fā)光刻膠、大尺英寸硅片等關鍵材料”；國家重點支持的高新技術領域（2015）中提到“高分辨率光刻膠及配套化學品作為精細化學品重要組成部分，是重點發(fā)展的新材料技術”；光刻技術（包括光刻膠）是《中國制造 2025》重點領域。

光刻膠編碼 HS編碼:	3707100001 [類注] \| [章注] \| [子目注釋]
中文描述:	不含銀的感光乳液劑（CIQ碼：301:液體）
英文描述:	Non--0--silver light-sensitive emulsion agent
申報要素:	0.品牌類型；1.出口享惠情況；2.用途；3.包裝；4.成分；5.是否含銀；6.品牌；7.型號；8.是否有感光作用（以下要素僅上海海關要求）9.GTIN；10.CAS
申報要素舉例:	/ 1.感光劑；2.用途:感光材料，用于噴墨制版機；3.包裝:瓶裝；4.成分:重氮樹脂94%以上；烘箱前烘條件：90-100度，10-20min，前烘時間與溫度應適當，如太長或溫度太高，光刻膠層變脆而附著力下降，而前烘不足會影響后面的顯影效果。5.無品牌；6.無型號
單位:	千克

PR1-1500A1NR9 3000PY光刻膠公司

正性光刻膠的金屬剝離技術

正性膠的金屬剝離工藝對于獲得難腐蝕金屬的細微光刻圖形比常規(guī)的光刻膠掩蔽腐蝕法顯示了優(yōu)越性。本文首先對金屬剝離工藝中的正、負光刻膠的性能作了對比分析。認為正性光刻膠除圖形分辨率高而適應于微細圖形的掩膜外，它還具有圖形邊緣陡直，去膠容易等獨特性能，比負性光刻膠更有利于金屬剝離工藝。然后給出了具體的工藝條件，并根據(jù)正性光刻膠的使用特點指出了工藝中的關鍵點及容易出現(xiàn)的問題。如正性光刻膠同GaAs表面的粘附性較差，這就要求對片子表面的清潔處理更為嚴格。為了高止光刻圖形的漂移控制光刻圖形的尺寸，對曝光時同特別是顯影液溫度提出了嚴格的要求。由于工藝中基本上不經(jīng)過腐蝕過程，膠膜的耐腐蝕性降到了次要地位。在光刻膠生產(chǎn)種類上，我國光刻膠廠商主要生產(chǎn)PCB光刻膠，而LCD光刻膠和半導體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模較小，相關光刻膠主要依賴進口。

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20．有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎？

A PC3-6000并不是光刻膠，它是用在chip

on glass 上的膠粘劑。

21．是否有Wax替代品？

A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定，比較容易去除掉。

22．貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料？

A 有，IC1-200就是

23．請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠？

A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟，都可以簡化。

24．一般電話咨詢光刻膠，我們應該向客戶咨詢哪些資料？

A 1 需要知道要涂在什么材質上，2