中頻磁控濺射鍍膜設備有哪些特點

中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設備濺射技術已漸成為濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結構和布局。該類設備廣泛應用于表殼、表帶、手機殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

多弧離子真空磁控濺射鍍膜機工作原理蒸發(fā)系統(tǒng)的結構與工作原理介紹

多弧離子鍍膜機是一種、無害、無污染的離子鍍膜設備，具有堆積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡略、本錢低、出產(chǎn)量大的長處。

真空多弧離子鍍膜機偏壓電源的作業(yè)原理

離子鍍膜正本是離子濺射鍍膜，關于導電靶材，運用直流偏壓電源；非導電靶材，運用脈沖偏壓電源。有的多弧離子鍍膜機，可能還需求直流電弧電源或脈沖電弧電源

偏壓電源正本即是在陰極和樣品所在位置的陽極之間構成偏壓電場，通常是陰極加負高壓。陰極外表的自由電子在電場效果下定向加快發(fā)射，發(fā)射電子炮擊氣體分子，使之電離，并且氣體被驅出的電子被電場加快，持續(xù)電離別的氣體分子，接二連三，構成雪崩效應，氣體被擊穿，構成穩(wěn)定的電離電流。此刻離子也被加快，炮擊靶材，將靶材中的原子驅除出外表，并堆積在樣品外表。

真空磁控濺射鍍膜機用戶設置具體設置

按“用戶設置”鈕進入真空磁控濺射鍍膜機的用戶設置界面，里面的數(shù)值除了時間參數(shù)可以根據(jù)機器運行情況作適當調整外，其余參數(shù)經(jīng)調試設定后一般不作修改。各參數(shù)功能如下：

主輥加速時間設定：用于設定主輥從低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需時間。單位：5秒。當輸入數(shù)值為4時，加速時間是20秒。

主輥減速時間設定：用于設定主輥從高速度400m/min減速至低速度0m/min的所需時間。單位：5秒。

收卷張力零速保持：用于設定零速張力保持時，收卷的力矩輸出值。

放卷張力零速保持：用于設定零速張力保持時，放卷的力矩輸出值。

編碼器輥直徑輸入：此數(shù)值為編碼器輥直徑的實際測量值。此數(shù)值必須正確無誤，以確保設備運行過程的穩(wěn)定性。

放卷初徑誤差值正設定：用于設定卷繞系統(tǒng)啟動運行時，“放卷初始卷徑輸入”值允許高于實際測量值的誤差值。

放卷初徑誤差值負設定：用于設定卷繞系統(tǒng)啟動運行時，“放卷初始卷徑輸入”值允許低于實際測量值的誤差值。

擺輥動作時間設定：用于設定擺臂在自動控制模式時，擺輥電眼檢測到信號后擺臂自動往外退的動作時間。