佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對膜層沉積的影響 ：弧靶電流：弧靶電流越大，靶材蒸發(fā)量越大，靶面溫度越高，冷卻越差，弧靶產(chǎn)生的液滴大顆粒越多，膜層外觀越差，膜層中的缺陷越多。

電子束蒸發(fā)源蒸鍍法

將蒸發(fā)材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面成膜，是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。

濺射鍍膜原理：

濺射鍍膜是利用濺射現(xiàn)象來達(dá)到制取各種薄膜的目的，即在真空室中利用荷能離子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基底上沉積的技術(shù)。輝光放電是在10-2Pa-10Pa真空度范圍內(nèi)，在兩個電極之間加上高壓時產(chǎn)生的放電現(xiàn)象。磁控濺射：原理：磁控濺射法被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中最成熟的Zn0:A1薄膜制備方法，通常分為直流濺射（DC）和射頻濺射（IC）兩種。它是離子濺射鍍膜的基礎(chǔ)，即離子濺射鍍膜中的入射離子一般利用氣體放電法得到。

PLD缺點：1、在鍍膜過程中，薄膜會被沉積在薄膜上的等離子本管中產(chǎn)生的微粒、氣態(tài)原子和分子降低質(zhì)量，采取一定的措施后也

不能完全消除.2、在控制摻雜、生長平滑的多層膜等方面PLD生長部比較困難，因此進一步提高薄膜的質(zhì)量會比較困難.