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中頻離子鍍膜設(shè)備免費咨詢

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發(fā)布時間:2020-08-03 04:43  









玻璃鍍膜機(jī)發(fā)展前景


近年來,無線充電功能在行業(yè)中不斷發(fā)酵,3D熱彎玻璃開始在手機(jī)電池后蓋背板上快速得到應(yīng)用,玻璃鍍膜機(jī)也跟隨著3D熱彎玻璃發(fā)酵,而被廣告商家認(rèn)可,銷量也快速上升。設(shè)計3D熱彎玻璃后蓋炫麗的效果,離不開光學(xué)玻璃鍍膜機(jī)的使用。

據(jù)聽說,目前行業(yè)的3D熱彎玻璃蓋板主要以應(yīng)用在電池后蓋蓋板為主。目前國內(nèi)全行業(yè)擁有的3D玻璃蓋板產(chǎn)能已突破3億片,即每天有超過100萬片的3D前后蓋板玻璃供應(yīng)到市場上,不過其中絕大部分都應(yīng)用在了電池后蓋上。

隨著后續(xù)的3D玻璃后蓋供應(yīng)鏈反應(yīng)速度加快,也帶動了整個玻璃鍍膜機(jī)械行業(yè)的發(fā)展,玻璃鍍膜機(jī)的相關(guān)設(shè)備銷量也大幅度提升。為了滿足市場需求和得到與眾不同的裝蝕效果,各品牌都依具自己的智能手機(jī)藝術(shù)表現(xiàn)方式,設(shè)計了不同的色系與色彩展現(xiàn)方式,以此突破傳統(tǒng)的設(shè)計方式,吸引眼球,充分滿足消費者追求。

3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品設(shè)計有了新的突破,但是它的加工工藝卻是十分的復(fù)雜。蓋板廠高在加工有些3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品的時候,需要通過多層光學(xué)鍍膜與紋理轉(zhuǎn)印工藝,再通過不同的組合嘗試放置在3D玻璃蓋板或樹脂防爆膜的不同層上來實現(xiàn),因此加工工藝十分復(fù)雜不說,占用的加工時間也很長。3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品形成,離不開玻璃鍍膜機(jī)為其運轉(zhuǎn)加工鍍膜,可以說在產(chǎn)品形成的整個流程中,起著至關(guān)重要的作用。

隨著3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品脫穎而出,也被大眾所認(rèn)可,3D熱彎玻璃也將進(jìn)入一個新趨勢,未來的前景不可小覷。因此也帶動了整個行業(yè)鏈的發(fā)展。



真空磁控濺射鍍膜機(jī)常見問題和原理,有多少人知道




真空磁控濺射鍍膜機(jī),是目前鍍膜行業(yè)用得廣泛的真空設(shè)備,隨著行業(yè)的發(fā)展,各種類型的真空磁控濺射鍍膜機(jī)也在逐漸出現(xiàn)。但是大部分人,并不了解真空磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理。真空磁控濺射鍍膜機(jī)主要是由真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。真空設(shè)備也分好多類型和型號,比喻:磁控濺射鍍膜機(jī)、不銹鋼鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī),種類不一樣,用途不一樣,型號也就不一樣,但是它們的工作原理是相通和類似的,下面為真空小編為大家詳細(xì)的講解一下真空磁控濺射鍍膜機(jī)的原理和常見問題,便于后期大家在采購鍍膜機(jī)的時候,方便溝通和交流,碰到常見的一些問題,也能自己及時處理,不至于消耗太多不必要的時間。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)真空主體是真空腔,他是根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等,腔體由不銹鋼'target=_blank>不銹鋼材料制作,要求不生銹、堅實等,真空腔各部分有連接閥,用來連接各抽氣泵浦。


真空鍍膜設(shè)備對底涂層需求及應(yīng)用


真空磁控濺射鍍膜機(jī)現(xiàn)已經(jīng)成為生活中不可或缺的一部分,為生活添加了一份光彩,真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支,它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā),理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有離子鍍、束流沉積鍍,蒸發(fā)鍍、濺射鍍、以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話,這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。


真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的,因為Al膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能,從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說,它的工作電壓高,電流大,沒有一定厚度的金屬膜會造成成單位面積Al膜上電流密度過高,易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件,Al層偏薄,則膜的連續(xù)性較差,呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),引起壓焊引線困難,造成不易壓焊或壓焊不牢,從而影響成品率;Al層過厚,引起光刻時圖形看不清,造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā),行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時均勻轉(zhuǎn)動,各個基片在沉積Al膜時的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點在坩堝蒸發(fā)源處,各個基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法,由于沉積電流和靶電壓可以控制,也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制,因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好,并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。


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