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標(biāo)準(zhǔn)校正氣體的均勻性

　　標(biāo)準(zhǔn)校正氣體屬于氣體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，與其它固體、液體標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)一樣，其均勻性是一項(xiàng)分重要的基本特征之一。雖然各種氣體具有較大的流動(dòng)性和擴(kuò)散能力，由于配置標(biāo)準(zhǔn)校正氣體時(shí)，幾種組分氣體先后充入高壓鋼瓶內(nèi)，加之各組分的分子量差異，結(jié)果使鋼瓶內(nèi)的氣體組分分布得不均勻，有的還可能產(chǎn)生分層的現(xiàn)象。另外，氣體組分與鋼瓶內(nèi)壁之間存在著一個(gè)吸附和脫附平衡過程，這對標(biāo)準(zhǔn)氣體的組分的均勻性產(chǎn)生不利的影響。正由于上述原因，配置標(biāo)準(zhǔn)校正氣體尚需采取一定混均處理手段，以解決充入鋼瓶內(nèi)各組分氣均勻性的問題。鋼瓶旋轉(zhuǎn)滾動(dòng)法是解決標(biāo)準(zhǔn)校正氣體混均的一種快捷、簡易、行之有效的方法。用途在集成電路、半導(dǎo)體和電真空器件制造中用作保護(hù)氣和運(yùn)載氣，化學(xué)氣相淀積時(shí)的載氣，液體擴(kuò)散源的攜帶氣，在高溫?cái)U(kuò)散爐中用作器件的保護(hù)氣。而自然擴(kuò)散法也能使標(biāo)準(zhǔn)校正氣體混合均勻，只不過達(dá)到均勻狀態(tài)所需的時(shí)間較長。

近年來隨著光電子、微電子技術(shù)的發(fā)展，特別是氮化技術(shù)的突破，對特種氣體的需求和技術(shù)要求愈來愈高。越來越多的生產(chǎn)廠家和用戶開始關(guān)注原材料的質(zhì)量及其對生產(chǎn)、銷售和企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益帶來的影響。

根據(jù)國家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟統(tǒng)計(jì)，從2004年開始國內(nèi)LED產(chǎn)業(yè)累計(jì)新增投資規(guī)模達(dá)150億元，近連續(xù)3年，每年企業(yè)訂購并安裝投入的MOCVD數(shù)量超過50臺以上，國產(chǎn)化率大幅提高，截止2008年底，芯片國產(chǎn)化率達(dá)到49%。

我們?yōu)閲鴥?nèi)外客戶提供鋼瓶普氣、電子氣等各類氣體，及其相關(guān)氣柜、面板、閥門及配件等設(shè)備、部件及工程服務(wù)；產(chǎn)品涉及各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域，如半導(dǎo)體芯片，太陽能電池，發(fā)光二極管，液晶顯示器，光學(xué)纖維，玻璃，激光等。

電子級三氯氫硅electronic grade trici}lorcx}ilane SiHC13無 色可燃，腐蝕性液體，有令人窒息的臭味。在濕空氣中迅速水解 生成氯化氫:沸點(diǎn)31.9':.熔點(diǎn)一126.5 C:。液體密度134UkgI 耐:在空氣「}，的可燃限b.9%一7U }'u。閃點(diǎn)一28 . U}.。我國經(jīng)濟(jì)的飛速發(fā)展，尤其是精細(xì)化工、有機(jī)硅產(chǎn)業(yè)、電子產(chǎn)品、光纖通訊等行業(yè)的快速發(fā)展，為三氯氫硅的生產(chǎn)和下游產(chǎn)品的開發(fā)提供了巨大的市場空間和機(jī)遇。TI}V按 HCl)5x 1U一“。

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為什么石油工業(yè)需要煉油用氫氣？

石油煉制工業(yè)用氫量僅次于合成氨。在石油煉制過程中，煉油用氫氣主要用于油加氫脫硫、粗柴油加氫脫硫、燃料油加氫脫硫、改善飛機(jī)燃料的無火焰高度和加氫裂化等方面；