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金屬蒸發(fā)鍍膜機(jī)報(bào)價(jià)信賴(lài)推薦,沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)公司

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-17 02:12  






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多源有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)系統(tǒng)

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主要用途:

用于納米級(jí)單層及多層金屬膜、 半導(dǎo)體膜等新材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專(zhuān)院校的薄膜材料科研。

系統(tǒng)組成:

由真空室、蒸發(fā)源、樣品臺(tái)、 真空測(cè)量、膜厚測(cè)試、電控系統(tǒng)組成。

技術(shù)指標(biāo):

極限真空度5.0×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S; 恢復(fù)真空時(shí)間:40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa

真空室:D形真空室,尺寸350× 380mm 

樣品臺(tái):尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品;

電極:數(shù)量:4支水冷結(jié)構(gòu);直徑Φ20㎜

樣品基片:,基片在鍍膜位置實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)?;臏囟葟氖覝刂?00℃

4套擋板系統(tǒng):基片擋板與源擋板;靶擋板共有3套, 樣品擋板(1套)

石英晶振膜厚控制儀:膜厚測(cè)量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)。

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多源蒸發(fā)系統(tǒng)介紹

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系統(tǒng)主要用來(lái)生長(zhǎng)EL OEL分子有機(jī)電致發(fā)光器件薄膜的研究工作  

該類(lèi)設(shè)備為雙室?guī)痔紫浣Y(jié)構(gòu)的有機(jī)、無(wú)機(jī)、多源有機(jī)、無(wú)機(jī)氣相分子沉積設(shè)備,采用直線式結(jié)構(gòu),由一個(gè)金屬材料生長(zhǎng)、氧化物生長(zhǎng)室、一個(gè)有機(jī)材料生長(zhǎng)室和一個(gè)手套箱組成,金屬材料生長(zhǎng)和氧化物生長(zhǎng)室以及進(jìn)樣室/氧化物生長(zhǎng)室之間通過(guò)空氣鎖聯(lián)接,樣品通過(guò)帶遠(yuǎn)程手控盒功能的電動(dòng)磁力耦合裝置在兩個(gè)生長(zhǎng)室之間手動(dòng)傳遞??蛇x手套箱。7、滾動(dòng)腔體特殊設(shè)計(jì),沉積速度快,成膜時(shí)間短,大大提高生產(chǎn)效率?! ?/span>



有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀

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有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀采用直線式結(jié)構(gòu),主要由二個(gè)有機(jī)材料生長(zhǎng)室組成,兩個(gè)有機(jī)材料生長(zhǎng)室之間通過(guò)閘板閥聯(lián)接,其中一個(gè)生長(zhǎng)室系統(tǒng)預(yù)留與手套箱對(duì)接接口,能夠完成二套獨(dú)立的制備薄膜系統(tǒng)之間互相傳送基片。有機(jī)無(wú)機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀的有機(jī)材料生長(zhǎng)室主要由真空室腔體組件、有機(jī)蒸發(fā)源、熱阻蒸發(fā)舟、樣品傳遞裝置、樣品臺(tái)、膜厚監(jiān)測(cè)儀、真空室照明裝置、烘烤裝置等組成。ZF500有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于高校材料、物理、化學(xué)、電子、能源等相關(guān)學(xué)科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等,半導(dǎo)體、有機(jī)EL、OLED顯示研究與開(kāi)發(fā)領(lǐng)域。



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