玻璃鍍膜機(jī)發(fā)展前景

近年來(lái)，無(wú)線(xiàn)充電功能在行業(yè)中不斷發(fā)酵，3D熱彎玻璃開(kāi)始在手機(jī)電池后蓋背板上快速得到應(yīng)用，玻璃鍍膜機(jī)也跟隨著3D熱彎玻璃發(fā)酵，而被廣告商家認(rèn)可，銷(xiāo)量也快速上升。設(shè)計(jì)3D熱彎玻璃后蓋炫麗的效果，離不開(kāi)光學(xué)玻璃鍍膜機(jī)的使用。

據(jù)聽(tīng)說(shuō)，目前行業(yè)的3D熱彎玻璃蓋板主要以應(yīng)用在電池后蓋蓋板為主。目前國(guó)內(nèi)全行業(yè)擁有的3D玻璃蓋板產(chǎn)能已突破3億片，即每天有超過(guò)100萬(wàn)片的3D前后蓋板玻璃供應(yīng)到市場(chǎng)上，不過(guò)其中絕大部分都應(yīng)用在了電池后蓋上。

隨著后續(xù)的3D玻璃后蓋供應(yīng)鏈反應(yīng)速度加快，也帶動(dòng)了整個(gè)玻璃鍍膜機(jī)械行業(yè)的發(fā)展，玻璃鍍膜機(jī)的相關(guān)設(shè)備銷(xiāo)量也大幅度提升。為了滿(mǎn)足市場(chǎng)需求和得到與眾不同的裝蝕效果，各品牌都依具自己的智能手機(jī)藝術(shù)表現(xiàn)方式，設(shè)計(jì)了不同的色系與色彩展現(xiàn)方式，以此突破傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)方式，吸引眼球，充分滿(mǎn)足消費(fèi)者追求。

3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品設(shè)計(jì)有了新的突破，但是它的加工工藝卻是十分的復(fù)雜。蓋板廠高在加工有些3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品的時(shí)候，需要通過(guò)多層光學(xué)鍍膜與紋理轉(zhuǎn)印工藝，再通過(guò)不同的組合嘗試放置在3D玻璃蓋板或樹(shù)脂防爆膜的不同層上來(lái)實(shí)現(xiàn)，因此加工工藝十分復(fù)雜不說(shuō)，占用的加工時(shí)間也很長(zhǎng)。3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品形成，離不開(kāi)玻璃鍍膜機(jī)為其運(yùn)轉(zhuǎn)加工鍍膜，可以說(shuō)在產(chǎn)品形成的整個(gè)流程中，起著至關(guān)重要的作用。

隨著3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品脫穎而出，也被大眾所認(rèn)可，3D熱彎玻璃也將進(jìn)入一個(gè)新趨勢(shì)，未來(lái)的前景不可小覷。因此也帶動(dòng)了整個(gè)行業(yè)鏈的發(fā)展。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)常見(jiàn)問(wèn)題和原理,有多少人知道

真空磁控濺射鍍膜機(jī)，是目前鍍膜行業(yè)用得廣泛的真空設(shè)備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類(lèi)型的真空磁控濺射鍍膜機(jī)也在逐漸出現(xiàn)。但是大部分人，并不了解真空磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理。真空磁控濺射鍍膜機(jī)主要是由真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵 機(jī)械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。真空設(shè)備也分好多類(lèi)型和型號(hào)，比喻：磁控濺射鍍膜機(jī)、不銹鋼鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)，種類(lèi)不一樣，用途不一樣，型號(hào)也就不一樣，但是它們的工作原理是相通和類(lèi)似的，下面為真空小編為大家詳細(xì)的講解一下真空磁控濺射鍍膜機(jī)的原理和常見(jiàn)問(wèn)題，便于后期大家在采購(gòu)鍍膜機(jī)的時(shí)候，方便溝通和交流，碰到常見(jiàn)的一些問(wèn)題，也能自己及時(shí)處理，不至于消耗太多不必要的時(shí)間。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)真空主體是真空腔，他是根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用多的有直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔體由不銹鋼'target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。

真空鍍膜設(shè)備對(duì)底涂層需求及應(yīng)用

真空磁控濺射鍍膜機(jī)現(xiàn)已經(jīng)成為生活中不可或缺的一部分，為生活添加了一份光彩，真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開(kāi)發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有離子鍍、束流沉積鍍，蒸發(fā)鍍、濺射鍍、以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話(huà)，這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導(dǎo)體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（CCD）也都甬道各種薄膜。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因?yàn)锳l膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對(duì)于高反壓功率管來(lái)說(shuō)，它的工作電壓高，電流大，沒(méi)有一定厚度的金屬膜會(huì)造成成單位面積Al膜上電流密度過(guò)高，易燒毀。對(duì)于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線(xiàn)困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過(guò)厚，引起光刻時(shí)圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)基片在沉積Al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處，各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。