公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡(jiǎn)稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

通過(guò)金屬化過(guò)程，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開(kāi)的情況下，不準(zhǔn)進(jìn)出掩膜板室(MaskRoom)，在存取掩膜板時(shí)室內(nèi)保持2人。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過(guò)光掩膜照射在光刻膠上，可以對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性照射（曝光）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過(guò)烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。

在容柵電子光學(xué)微影技術(shù)性中，光罩表層的擋光圖樣會(huì)與基鋼板上的光阻層觸碰磨擦，非常容易促使擋光圖樣損耗促使光罩使用期減少。掩膜（MASK）：全稱單片機(jī)掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過(guò)程中把程序做進(jìn)去。另一個(gè)，當(dāng)施膠光亮阻層的基鋼板表層并不是十分整平時(shí)，光罩與光阻層會(huì)造成不確定性的間隙與間距，而導(dǎo)致光源的光學(xué)散射與繞射，從而導(dǎo)致曝i光的規(guī)格偏差，而且導(dǎo)致光阻層淺部一部分的側(cè)面曝i光范疇擴(kuò)張，因此沒(méi)法制做出深?yuàn)W長(zhǎng)寬比的光阻構(gòu)造。

掩膜版是對(duì)勻膠鉻版經(jīng)過(guò)光繪加工后的產(chǎn)品。勻膠鉻版(光掩膜基版)由玻璃基板、鉻層、氧化鉻層和光刻膠層構(gòu)成的。通過(guò)光刻制版工藝,將微米級(jí)和納米級(jí)的精細(xì)圖案刻制于掩膜版基板上從而制作成掩膜版。

根據(jù)基板材質(zhì)的不同主要可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時(shí)所常用的光刻掩膜版。