真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。而且，這樣的納米膜還可以涂覆在內(nèi)部電子元件表面，這樣即使有水進到內(nèi)部也不會造成損壞。此項技術(shù)用于生產(chǎn)光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等，如手表外殼鍍仿金色，機械刀具鍍膜，改變加工紅硬性。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。

隨著表面貼裝技術(shù)發(fā)展和元器件的日益小型化，印制電路組件也日益向小型化和高密度方向發(fā)展，這給印制電路組件的三防措施提出了新的要求?？傮w來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導電效果。傳統(tǒng)使用的環(huán)氧樹脂、聚氯脂、有機硅樹脂、聚脂等防護涂料都是液體涂料。由于液體的粘度和表面張力等原因，涂層厚度不均勻，在棱、角等處涂層較薄，當元器件之間，基板之間僅有很小間距時，會因涂層流不到而形成氣隙。涂層固化，烘干后會因溶劑或小分子助劑的揮發(fā)，產(chǎn)生收縮應(yīng)力或形成微小。

這些傳統(tǒng)涂層的介電強度一般也在2000V/25um以下，因此必須經(jīng)多次涂敷，用較厚的涂層才能實現(xiàn)較可靠的防護，Parylene涂敷是由活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。第二代的抗磨損膜技術(shù)就是通過浸泡工藝法在有機鏡片的表面鍍上一種硬度高且不易脆裂的材料。氣態(tài)的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個細小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。它沒有助劑溶劑等小分子，不會對基材形成傷害，厚度均勻的防護層和優(yōu)異的性能相結(jié)合，使Parylene涂層僅需0.02-0.05㎜就能對印制電路組件的表面提供非常可靠的防護，甚至經(jīng)過鹽霧試驗，表面絕緣電阻也不會有很大改變，而且較薄的涂層對元器件工作時所產(chǎn)生的熱量消散也非常有利。另外由于分子結(jié)構(gòu)對稱性較好，使它在較高的頻率下仍有較小的介質(zhì)損耗和介電常數(shù)，它的這種高頻低損耗特性使它為高頻微波電路的可靠防護創(chuàng)造了條件。

市場對OLED顯示器件要求使用壽命大于10000h，而OLED對于水汽、氧氣非常敏感，其有機發(fā)光材料和活潑金屬陰極都很容易和水汽、氧氣發(fā)生反應(yīng)而使器件遭到損壞。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。派瑞林涂層的水汽滲透率非常低，較可靠的將OLED器件與外界的水氧隔絕，保護了發(fā)光材料和活潑金屬陰極，從而提高了OLED的使用壽命。

派瑞林涂層的鍍膜方式為氣相沉積CVD，沉積過程過程主要有三步：

1. 真空130℃條件下固態(tài)派瑞林材料升華成氣態(tài)。

2. 真空680℃條件下，將氣態(tài)雙份子裂解成活性單體。

3. 真空常溫下，氣態(tài)單體在基體上生長聚合。