江蘇一六儀器  X射線熒光鍍層測厚儀

性能優(yōu)勢：

   下照式設計：可以快速方便地定位對焦樣品。

   無損變焦檢測:可對各種異形凹槽進行無損檢測，凹槽深度范圍0-90mm。

   微聚焦射線裝置：可檢測面積小于0.002mm2的樣品，可測試各微小的部件。

   jie shou 器：即使測試0.01mm2以下的樣品，幾秒鐘也能達到穩(wěn)定性。

   EFP先進算法軟件：多層多元素，甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。

統(tǒng)計計算功能平均值、標準偏差、相對標準偏差、max值、min值、數(shù)據(jù)變動范圍、CP、數(shù)據(jù)編號、CPK、控制上限圖、控制下限圖數(shù)據(jù)分組、X-bar/R圖表直方圖數(shù)據(jù)庫存儲功能

-系統(tǒng)安全監(jiān)測功能Z軸保護傳感器樣品室門開閉傳感器操作系統(tǒng)多級密碼操作系統(tǒng):操作員、分析員、工程師-任選軟件統(tǒng)計報告編輯器允許用戶自定義多媒體報告書液體樣品分析，如鍍液中的金屬元素含量材料鑒別和分類檢測材料和合金元素分析檢測。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術企業(yè)。我們專業(yè)的研發(fā)團隊具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗，經(jīng)與海內外多名專家通力合作，研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。波長色散型譜線分辨本領高，而能量色散型可同時測量多條譜線的能量。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進的解譜方法和EFP算法結合精準定位及變焦結構設計，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

目前，金屬鍍層常用的分析方法有濕化學電解分析、輝光放電---發(fā)射光譜分析（GD-OES）和X射線熒光光譜儀等。濕化學電解分析需選用適當溶劑溶解選定的鍍層，逐層溶解并進行測定，方法準確但費時費力，尤其是相關特定溶劑的選擇也非常復雜，價格又貴，屬于典型破壞性樣品檢測，測量手段手段繁瑣，速度慢，電解液耗損大，目前一般很少應用。GD-OES方法用惰性原子逐層轟擊及剝離試樣表層，再用發(fā)射光譜測定，這種方法可實現(xiàn)剖面或逐層分析，但測量重復性并不理想。對于樣品可進行連續(xù)多點測量，適合分析鍍層的厚度分布情況，并可以對樣品的復雜面進行測量。

    一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

   元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

   一次可同時分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

     X射線熒光光譜測厚儀   X射線的產(chǎn)生  

X射線波長略大于0.5納米的被稱作軟X射線。波長短于0.1納米的叫做硬X射線。

產(chǎn)生X射線的簡單方法是用加速后的電子撞擊金屬靶。撞擊過程中，電子突然減速，其損失的動能(其中的1%)會以光子形式放出，形成X光光譜的連續(xù)部分，稱之為制動輻射。通過加大加速電壓，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內層電子撞出。于是內層形成空穴，外層電子躍遷回內層填補空穴，同時放出波長在0.1納米左右的光子。將分光晶體和探測器裝在測角儀上，使它在一定角度范圍內轉動，一次測量不同波長長譜線的強度，使用這種形式的光譜儀稱為順序掃描式光譜儀。由于外層電子躍遷放出的能量是量子化的，所以放出的光子的波長也集中在某些部分，形成了X光譜中的特征線，此稱為特性輻射。