電鍍電鍍過程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽離子的溶液中，陽離子在電場作用下會遷移到陰極并轉(zhuǎn)化成金屬原子結(jié)晶到磁體表面。燒結(jié)釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩(wěn)定，在潮濕空氣或含氧的水中則會生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結(jié)釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

一、鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類?可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍(2)電鍍(3)化學反應(4)熱處理(5)物理或機械處理二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點?加熱方式分為：(1)電阻加熱(2)感應加熱(3)電子束加熱(4)雷射加熱(5)電弧加熱各具有的特點：(1)電阻加熱：這是一種zui簡單的加熱方法，設備便宜、操作容易是其優(yōu)點。(2)感應加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。(3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達30000C。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當代zui先進的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。