考夫曼離子源是應(yīng)用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先由陰極在離子源內(nèi)腔產(chǎn)生等離子體，讓后由兩層或三層陽(yáng)極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來(lái)。這種離子源產(chǎn)生的離子方向性強(qiáng)，離子能量帶寬集中，可廣泛應(yīng)用于真空鍍膜中。缺點(diǎn)是陰極（往往是鎢絲）在反應(yīng)氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對(duì)需要大離子流量的用戶可能不適和。

       霍爾離子源是陽(yáng)極在一個(gè)強(qiáng)軸向磁場(chǎng)的協(xié)作下將工藝氣體等離子化。這個(gè)軸向磁場(chǎng)的強(qiáng)不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場(chǎng)的作用太強(qiáng)，霍爾離子源離子束需要補(bǔ)充電子以中和離子流。常見(jiàn)的中和源就是鎢絲（陰極）。

       離子源類(lèi)型雖多，目的卻無(wú)非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調(diào)制增加反應(yīng)氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結(jié)合強(qiáng)度，音響板派瑞林鍍膜oem，同時(shí)膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會(huì)改善。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對(duì)膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級(jí)也較高的離子源，如霍爾離子源或陽(yáng)極層離子源。

       陽(yáng)極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環(huán)形（長(zhǎng)方形或圓形）窄縫中施加強(qiáng)磁場(chǎng)，在陽(yáng)極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽(yáng)極層離子源可以做得很大很長(zhǎng)，真空鍍膜材料派瑞林，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。陽(yáng)極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發(fā)散，且能級(jí)分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應(yīng)用于光學(xué)鍍膜并不太多。

濃度在5%以下時(shí)，鋼、鎳、黃銅的腐蝕速度隨濃度的增加而增加；當(dāng)濃度大于5%時(shí)，這些金屬的腐蝕速度卻隨著濃度的增加而下降。這是因?yàn)?，在低濃度范圍?nèi)，氧含量隨鹽濃度的增加而增加；當(dāng)鹽濃度增加到5%時(shí)，惠州派瑞林鍍膜，氧含量達(dá)到相對(duì)的飽和，派瑞林鍍膜哪里好，如果鹽濃度繼續(xù)增加，氧含量則相應(yīng)下降。氧含量下降，氧的去極化能力也下降即腐蝕作用減弱。對(duì)于鋅、鎘、銅等金屬，腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。

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