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硅片除氣裝置-科創(chuàng)真空-硅片除氣裝置哪家好

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發(fā)布時間:2024-04-10 03:23  
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視頻作者:北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司





真空除氣儲存柜主要參數(shù)

1、爐型結(jié)構(gòu):臥式與立式,單室與雙室或多室,爐體爐門采用雙層水冷,前開門結(jié)構(gòu)。由爐體、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

2、極限溫度:1500℃

3、工作區(qū)尺寸:按照用戶需求定制

4、設(shè)備總功率:20-100 KW(含加熱系統(tǒng)、真空機組、制冷機)

5、電源頻率:50Hz

6、電源電壓:三相380 V(±10V)



真空除氣儲存柜的加熱系統(tǒng)

1、加熱區(qū)尺寸:定制

2、加熱功率:30-80 KW(實際功率可調(diào))

3、加熱元件:鉬片

4、隔熱組件:鉬 不銹鋼

5、溫度測量:S型熱電偶

6、控溫精度:±1℃

7、升溫速率 :由室溫升至1000℃小于80min(空載)

8、加熱室:采用圓筒形加熱室結(jié)構(gòu)。隔熱屏采用多層鉬結(jié)構(gòu),各層之間采用99剛玉陶瓷,發(fā)熱體為鉬片,硅片除氣裝置價格,鉬片均勻環(huán)繞在隔熱屏周圍,實現(xiàn)良好的溫度均勻性。具有使用壽命長、隔熱保溫性能好、真空放氣量較少。外框使用不銹鋼(310S)板材料,并且焊接多道加強筋以保證不變形。

9、加熱控制:采用PID智能控溫模塊設(shè)計,硅片除氣裝置哪家好,可編輯30 段升溫曲線,存貯20 組工藝配方,組合PLC等實現(xiàn)超壓、超溫、過流等自動報警保護功能,硅片除氣裝置,10寸液晶觸摸屏顯示操作,硅片除氣裝置生產(chǎn)廠家,具有操作方便,功能強大,穩(wěn)定性好等特點。



高真空除氣爐的特點

科創(chuàng)鼎新公司生產(chǎn)的高真空除氣爐,真空度可高達10-7Pa,可用于半導(dǎo)體硅片的除氣以及紅外芯片、氣密性封裝、航空航天芯片等其他電子產(chǎn)品的封裝。

高真空除氣爐特點: 

① 極限真空度高;

② 控溫精度高;

③ 更高的升溫速率;

④ 更加智能化;

⑤ 可真空去除產(chǎn)品空洞與氣泡;

⑥ 降低產(chǎn)品的氧化性;

⑦ 提高工藝室的潔凈度。



硅片除氣裝置-科創(chuàng)真空-硅片除氣裝置哪家好由北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司提供。北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司是一家從事“氦檢漏設(shè)備,氦質(zhì)譜檢漏儀,LNG抽真空設(shè)備”的公司。自成立以來,我們堅持以“誠信為本,穩(wěn)健經(jīng)營”的方針,勇于參與市場的良性競爭,使“科創(chuàng)真空”品牌擁有良好口碑。我們堅持“服務(wù)至上,用戶至上”的原則,使科創(chuàng)真空在行業(yè)設(shè)備中贏得了客戶的信任,樹立了良好的企業(yè)形象。 特別說明:本信息的圖片和資料僅供參考,歡迎聯(lián)系我們索取準(zhǔn)確的資料,謝謝!

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