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離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面,納米涂層模具,使大量的電能在工件表面轉換成熱能,從而促進了表層組織的擴散作用和化學反應。然而,整個工件,特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣,受到的局限性則較小。通常,各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬,也可在非金屬上鍍金屬或非金屬,甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。
PVD鍍膜技術其功應用,主要是裝飾鍍膜和工具鍍膜。對于幫助企業(yè)產品提升產品的耐磨性、耐腐蝕性和保持化學穩(wěn)定性等特點,可謂功不可沒。
真空蒸鍍基本原理:在真空條件下,使金屬、金屬合金等蒸發(fā),然后沉積在基體表面上,蒸發(fā)的方法常用電阻加熱,電子東轟擊鍍料,使蒸發(fā)成氣相,然后沉積在基體表面,歷,真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。
濺射鍍膜基本原理:充(Ar)氣的真空條件下,云浮納米涂層,使氣進行輝光放電,這時(Ar)原子電離成氮離子(Ar),離子在電場力的作用下,加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材,靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子,一般采用輝光放電獲得,在10-2pa~10Pa范圍,所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中,易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞,使運動方向隨機,沉積的膜易于均勻。
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