真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子?xùn)|轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進行輝光放電，這時(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，彈簧派瑞林鍍膜多少錢，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，彈簧派瑞林鍍膜定制，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。

        Parylene HT，該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)定性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可450攝氏度，長期耐溫

        CVD（Chemical Vapor Deition）法：將對二和水蒸氣按一定比例混合，經(jīng) 950~1000 °C高溫?zé)峤?，得到對二環(huán)二體(dimer)，隨后，經(jīng)提純的二聚體在 120°C 的升華區(qū)內(nèi)升華，彈簧派瑞林鍍膜定做，在惰性氣體的推動下，二聚體進入溫度為 660°C 的裂解區(qū)，高溫下二聚體的分子鍵斷裂，臺山彈簧派瑞林鍍膜，生成活性的對二活性單體(monomer)，后在惰性氣體氣的推動下，活性單體在常溫或較低溫度下的真空沉積室里，在相應(yīng)的基體材料的表面聚合沉積為parylene 薄膜。

        不導(dǎo)電（NCVM）鍍膜設(shè)備NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術(shù)或不導(dǎo)電電鍍技術(shù)，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術(shù)。真空電鍍，簡稱 vm， 是vacuum metalization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學(xué)和物理等特定手段進行有機轉(zhuǎn)換，使金屬轉(zhuǎn)換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。

        進口不導(dǎo)電（NCVM）鍍膜設(shè)備應(yīng)用于塑料電子產(chǎn)品:手機外殼、手機按鍵、電腦、數(shù)碼、電子通信等的表面鍍制不導(dǎo)電膜（NCVM）。大功率蒸發(fā)系統(tǒng)，可控硅控制，重復(fù)性、穩(wěn)定性高，獨有鍍透電極設(shè)計，配置石英晶振，可控制任何膜層厚度，擁有的工件架技術(shù)，轉(zhuǎn)速平穩(wěn)可調(diào)，產(chǎn)量大且良品率高。

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