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微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,廣東半導(dǎo)體光刻定制,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。
光刻是通過特定的生產(chǎn)步驟,將晶圓表面薄膜的特定部分去除的工藝,需要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測的等多道工序。光刻掩膜版類似于相機(jī)曝光后的底片,應(yīng)用于對集成電路進(jìn)行投影定位。光掩膜版的制作有專門的制版設(shè)備,一般都是用激光直寫光刻設(shè)備做出來的。
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微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。半導(dǎo)體光刻定制
制作光刻掩膜版需要使用相關(guān)軟件制作版圖。
制作版圖時(shí),可以先使用ppt或者其他簡單的繪圖軟件設(shè)計(jì)pattern,在此基礎(chǔ)上,依據(jù)具體的圖形大小、間距,半導(dǎo)體光刻定制代工,使用Coredraw、CAD、L-edit等矢量圖制作軟件再次準(zhǔn)確繪制,獲得光刻掩膜版制造方需要的版圖格式文件。
光刻掩膜版制作大概分為7個(gè)步驟:
步驟一、在提供的掩膜基板上涂覆一層光刻膠;
步驟二、對步驟一所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影,形成光刻膠圖案;
步驟三、采用物理氣相沉積工藝或其他工藝在所述基板上在光刻膠圖案的直孔內(nèi)沉積一層掩膜材料;
步驟四、去除掩膜基板和光刻膠圖案,得到初始掩膜板;
步驟五、在初始掩膜板的上、下表面分別形成光致刻蝕層圖案;
步驟六、采用化學(xué)刻蝕工藝對初始掩膜板的下表面及直孔通孔的內(nèi)壁進(jìn)行刻蝕,形成具有斜錐角的曲線形凹槽;
步驟七、去除光致刻蝕層圖案,得到掩膜板。
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微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,半導(dǎo)體光刻定制工廠,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。
正膠光刻的基本流程:襯底清洗、前烘以及預(yù)處理,涂膠、軟烘、曝光、顯影、圖形檢查,后烘。
對于國產(chǎn)光刻膠來說,今年的九月是極為特殊的一個(gè)月份。9月23日,發(fā)改委聯(lián)合工i信部、科技部、財(cái)i政部共同發(fā)布了《關(guān)于擴(kuò)大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)投資培育壯大新增長點(diǎn)增長極的指導(dǎo)意見》,《意見》提出,加快新材料產(chǎn)業(yè)強(qiáng)弱項(xiàng),具體涉及加快在光刻膠、大尺寸硅片、電子封裝材料等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破。而在《意見》還未發(fā)布之前,半導(dǎo)體光刻定制制作,部分企業(yè)已經(jīng)聞聲先動了。除了幾家企業(yè)加大投資、研發(fā)國產(chǎn)光刻膠之外,還有兩家企業(yè)通過購買光刻機(jī)的方式,開展光刻膠的研發(fā)。光刻膠產(chǎn)業(yè),尤其是較優(yōu)光刻膠一直是日本企業(yè)所把持,這已不是什么鮮為人知的信息了。
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