主要指標(biāo)：產(chǎn)品中w（REO）=99%，w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%，w（CeO2）≥48%）為原料，以化學(xué)方法預(yù)處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉(zhuǎn)化成w（CeO2）=80%~85%的中級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細(xì)磨篩分→中級(jí)系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設(shè)備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，紅色稀土拋光粉，過濾機(jī)，煅燒爐，細(xì)磨篩分機(jī)及包裝機(jī)。

在稀土拋光粉的消費(fèi)中，日本是消費(fèi)者，稀土拋光粉作用，每年約生產(chǎn)3550噸~4000噸拋光粉，產(chǎn)值35億~40億日元，還從法國(guó)、美國(guó)和中國(guó)進(jìn)口部分拋光粉。其中拋光粉消費(fèi)市場(chǎng)是彩電陰極射線管。二十世紀(jì)90年代中期，日本陰極射線管的生產(chǎn)轉(zhuǎn)向海外，而平面顯示產(chǎn)品產(chǎn)量迅速增加，對(duì)基拋光粉的需求量也迅速增加。估計(jì)日本在液晶顯示用平面顯示器生產(chǎn)上消費(fèi)的拋光粉約占其市場(chǎng)的50%.90年代以來，日本將其陰極射線管用拋光粉的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備向海外轉(zhuǎn)移，如：日本清美化學(xué)從1989年開始在海外生產(chǎn)陰極射線管用基拋光粉。






　對(duì)于高拋光粉來講，稀土拋光粉廠家，氧化的品位越高，拋光能力越大，使用壽命也增加，稀土拋光粉，特別是硬質(zhì)玻璃長(zhǎng)時(shí)間循環(huán)拋光時(shí)（石英、光學(xué)鏡頭等），以使用高品位的拋光粉為宜。低拋光粉一般含有50%左右的CeO2，其余50%為L(zhǎng)a2O3?SO3，Nd2O3?SO3，Pr6O11?SO3等堿性鹽或LaOF、NdOF、PrOF等堿性氟化物，此類拋光粉特點(diǎn)是成本低及初始拋光能力與高拋光粉比幾乎沒有兩樣，因而廣泛用于平板玻璃、顯像管玻璃、眼鏡片等的玻璃拋光，但使用壽命難免要比高拋光粉低。






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