PVD是物理氣相沉積的簡(jiǎn)稱，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上真空鍍膜。利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，表面納米涂層，在工件表面形成具有特殊性能的金屬或化合物涂層，其特殊性能包括強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性、以及絕緣等。涂層的物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，納米涂層公司，利用氣體放電或加熱的方式使靶材蒸發(fā)或者電離，經(jīng)過(guò)“蒸發(fā)或者濺射”后，在電場(chǎng)的作用下，在工件表面生成與基材性能不同的固態(tài)物質(zhì)涂層。

       在日常的操作中，有些用戶由于其操作不當(dāng)導(dǎo)致鍍膜效果欠佳的問(wèn)題，在PVD真空鍍膜過(guò)程中，鍍膜機(jī)腔體內(nèi)的壓力波動(dòng)將導(dǎo)致鍍膜不均勻以及重復(fù)性欠佳。質(zhì)量流量控制器控制反應(yīng)氣體的同時(shí)，采用壓力控制器控制腔體內(nèi)惰性氣體的壓力，從而提升終等離子氣相沉積(PVD)的結(jié)果。

金屬腐蝕的臨界相對(duì)濕度大約為70%。當(dāng)相對(duì)濕度達(dá)到或超過(guò)這個(gè)臨界濕度時(shí)，鹽將潮解而形成導(dǎo)電性能良好的電解液。當(dāng)相對(duì)濕度降低，納米涂層，鹽溶液濃度將增加直至析出結(jié)晶鹽，腐蝕速度相應(yīng)降低。溫度升高，鉆石納米涂層，分子運(yùn)動(dòng)加劇，高鹽霧腐蝕速度越快。國(guó)際電工指出：溫度每升高10℃，腐蝕速度提高2～3倍，電解質(zhì)的導(dǎo)電率增加10～20%。對(duì)于中性鹽霧試驗(yàn)，一般認(rèn)為試驗(yàn)溫度選在35℃較為恰當(dāng)。

派瑞林（PARYLENE）真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面。它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供了一種新的薄膜制備工藝。簡(jiǎn)而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射，從而可以沉積在被涂覆的物體(稱為基底、襯底或基體)上

光學(xué)鍍膜技術(shù)常用的方法是真空濺射鍍膜玻璃基片，一般用來(lái)控制基片對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)零件表面的反射損耗，提高成像質(zhì)量，涂覆一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為減反射膜或減反射膜。

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