研磨時間對BiVO_(4)試樣光催化活性的影響

以偏釩酸銨(NH_(4)VO_(3))和五水合鉍(Bi(NO_(3))_(3)·5H_(2)O)為原料，采用固相法制備了釩酸鉍(BiVO_(4))光催化劑。采用X射線衍射(XRD)、紫外可見漫反射光譜(UV-Vis DRS)、掃描電子顯微鏡(SEM)和BET比表面積測試對試樣進行表征。以亞藍(MB)的光催化降解反應為探針，考察了研磨時間對BiVO_(4)試樣光催化活性的影響。結果表明:延長研磨時間，有利于提高BiVO_(4)試樣的結晶度，提高光吸收能力，偏釩酸銨，從而增強光催化活性，但過長的研磨時間會導致BiVO_(4)的比表面積下降;研磨時間為10 min時，BiVO_(4)試樣具有佳的光催化活性;當反應條件為催化劑濃度1 g/L，室溫下光照反應30 min時，MB的降解率達到82.3%。

以工業(yè)偏釩酸銨為原料，生產(chǎn)偏釩酸銨，采用鎂鹽沉淀法

以工業(yè)偏釩酸銨為原料，采用鎂鹽沉淀法除去偏釩酸銨中硅、磷，并分析除硅、除磷機理，偏釩酸銨報價，制備高純偏釩酸銨。考察了酸度、溫度、鎂鹽用量、時間等因素對除硅、除磷的影響。實驗結果得出佳工藝條件為:pH為10、硫酸鎂用量按料液比:釩液(50 g/L)∶鎂液(0.6 mol/L)=8∶1、溫度80℃、反應時間60 min，自然靜置60 min。并在此條件下，除磷率95%以上，除硅率84%以上，NH4VO3品位從98.37%提高到99.28%。

在氯化銨與偏釩酸鈉溶液反應生成偏釩酸銨的沉淀過程中，探討偏釩酸鈉的初始濃度、加銨系數(shù)K、溶液pH值及溫度等因素對沉釩率的影響及沉淀動力學。通過X射線衍射和紅外光譜對沉淀產(chǎn)物的微觀結構進行表征。結果表明:以30 g/L V2O5溶液進行實驗，偏釩酸銨廠家，當pH=8左右、以K=2加入氯化銨固體、溫度為50℃時，沉釩率達到99%以上，動力學數(shù)據(jù)符合二級反應速率方程;產(chǎn)品與偏釩酸銨標準圖譜一致;產(chǎn)品純度(質(zhì)量分數(shù))為99.3%。

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