稀土拋光粉的應用

　　由于系稀土拋光粉具有較優(yōu)的化學與物理性能，所以在工業(yè)制品拋光中獲得了廣泛的應用，如已在各種光學玻璃器件、電視機顯像管、光學眼鏡片、示波管、平板玻璃、半導體晶片和金屬精密制品等的拋光。

　　高系稀土拋光粉，主要適用于精密光學鏡頭的高速拋光。實踐表明，該拋光粉的性能優(yōu)良，拋光效果較好，由于價格較高，國內的使用量較少。

因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的拋光粉（包括稀土拋光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亞微米級稀土拋光粉，由于在液晶顯示器與電腦光盤領域的應用逐漸受到重視，稀土拋光粉生產工藝，產量逐年提高。納米級稀土拋光粉目前也已經問世，隨著現代科學技術的發(fā)展，其應用前景不可預測，但目前其市場份額還很小，屬于研發(fā)階段。

以上原料中除種外，第2，稀土拋光粉公司，3，稀土拋光粉的價格，4種均含輕稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2為主，w（CeO2）為48%~50%.我國具有豐富的資源，據測算，清遠稀土拋光粉，其工業(yè)儲量約為1800萬噸（以CeO2計），這為今后我國持續(xù)發(fā)展稀土拋光粉奠定了堅實的基礎，也是我國獨有的一大優(yōu)勢，并可促進我國稀土工業(yè)繼續(xù)高速發(fā)展。

　　1.4主要生產工藝及設備

　　1.4.1高系稀土拋光粉的生產

　　以稀土混合物分離后的氧化為原料，以物理化學方法加工成硬度大，粒度均勻、細小，呈面心立方晶體的粉末產品。其主要工藝過程為：原料→高溫→煅燒→水淬→水力分級→過濾→烘干→系稀土拋光粉產品。

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