優(yōu)點化學拋光的優(yōu)點是化學拋光設備簡單，不需要什么特殊設備，兩酸拋光配方，只需要一個盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導體材料也可以用化學拋光，非導體嵌鑲的試樣也可以直接拋光?；瘜W拋光也可以處理形狀比較復雜的零件

缺點1、化學拋光的質(zhì)量不如電解拋光。2、化學拋光所用溶液的調(diào)整和再生比較困難，在應用上受到限制。3、化學拋光操作過程中，散發(fā)出大量黃棕色有害氣體，對環(huán)境污染非常嚴重。4、拋光溶液的使用壽命短，溶液濃度的調(diào)節(jié)和再生比較困難

含量控制.采用磷酸基化學拋光槽液時，含量應控制在規(guī)定的范圍內(nèi)，通常按照化學分析結(jié)果調(diào)整，特別要掌握添加的規(guī)律，并安全操作.有經(jīng)驗的化學拋光操作人員，可以從化學拋光表面光亮度判明含量，通常，的消耗量為化學拋光槽液消耗量的1%~2%（體積分數(shù)）.若不及時補加，兩酸拋光工藝，鋁合金型材表面會出現(xiàn)光亮度不足等現(xiàn)象.如果含量太低，可以看到化學拋光后的鋁合金型材光亮度不滿意或看到細小的白色附著物斑點等缺陷.若含量太高，可能出現(xiàn)淺藍色至橙色彩虹膜.

氧化拋光液氧化拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化研磨液，泰州兩酸拋光，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。氧化鋁和碳化硅拋光液是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

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