真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，金屬化學(xué)氣相沉積，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。

帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級(jí)階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比。阻礙帶鋼真空鍍膜發(fā)展的主要原因是生產(chǎn)率低，成本較高。有效的解決方法是開發(fā)研制高速，穩(wěn)定的高功率蒸發(fā)源。

大功率電子的開發(fā)和使用是帶鋼真空鍍膜中的關(guān)鍵技術(shù)。一般的真空蒸發(fā)鍍膜可以采用電阻加熱和感應(yīng)加熱。它的設(shè)備較簡(jiǎn)單，但加熱溫度和蒸發(fā)速率較低。要滿足連續(xù)式工業(yè)化生產(chǎn)鋼帶真空鍍膜的需要，就必須使用加熱速度快，熔化溫度高的熱源。

真空磁控陰極濺射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔體內(nèi)，處在負(fù)電壓的兩極間的工作氣體正離子在正交電磁場(chǎng)的作用下飛向陰極，低壓化學(xué)氣相沉積，在很短的陰極位降區(qū)內(nèi)獲得很大的能量去迅速轟擊靶材，從而使陰極(靶材)原子飛向玻璃基片--玻璃沉積膜層，濺射出的二次電子(此過程稱γ過程)在電磁場(chǎng)作用下按旋輪線運(yùn)動(dòng)參與碰撞電離，新北化學(xué)氣相沉積，蟹衍載流子，這樣就能源源不斷地轟擊陰極，提供足夠數(shù)量的正離子，形成的等離子區(qū)使持續(xù)輝光放電，其可以一次完成多層鍍膜，有著的膜層均勻性，等離子化學(xué)氣相沉積，的邊緣復(fù)蓋和良好的附著力。鍍膜有著優(yōu)于和區(qū)別于其它真空磁控濺射鍍膜機(jī)的地方是：它的平面磁控靶上的磁場(chǎng)是由環(huán)形磁鐵產(chǎn)生的，可將半園環(huán)形磁鐵看成是T微扇柱狀磁鐵的組合 。所以，其相應(yīng)點(diǎn)磁標(biāo)勢(shì)較穩(wěn)定，才能生產(chǎn)出均勻牢固的鍍膜層。

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