光催化劑是指在一定能量光子激發(fā)下價帶電子發(fā)生躍遷，產(chǎn)生光生電子和空穴，光生空穴與空氣中的水分子反應生成羥基自由基，而光生電子與空氣中的氧反應生成氧負離子。羥基自由基和氧負離子均具有較高的氧化還原電位，特別是羥基自由基的氧化還原電位可達2.8eV，工業(yè)環(huán)保設備，可將一般有機物分解為二氧化碳和水，將含氯的有機物分解成二氧化碳、水和。由于納米TiO2光催化劑具有生物降解的速度快、無選擇性、降解完全，并且具有良好的化學穩(wěn)定性、價格低和無毒等特點，已經(jīng)應用在有機廢水和工業(yè)VOCs廢氣處理領域。

一般來說，廢氣排放量較大，VOCs濃度較低。半導體工藝過程中有機廢氣具有排放流量大(通常大于11000m3/h)和濃度低(通常小于25ppmv)的特點，電子工業(yè)廢氣VOCs排放中還含有酸性氣體、堿性氣體和一些有毒氣體。

揮發(fā)性有機物(VOCs)排放量大、濃度低、成分復雜，環(huán)保設備，常見有機廢氣治理方法如：焚燒、吸附、冷凝、生物膜法、低溫等離子、光催化氧化等，單獨運用或無法達成經(jīng)濟運行，或不能滿足嚴苛的排放標準。

電子廠廢氣處理方法

（1）預處理階段：一般采用噴淋塔先對廢氣進行預處理，去除粉塵以及易溶于水的有害氣體。

（2）主要處理階段：在此階段，比較常見而有效方法有：UV光解，生物過濾分解，焚燒和催化燃燒等。

這幾種方式各有優(yōu)劣，根據(jù)大多數(shù)電子廠廢氣的情況，在這里我們主要推薦和介紹活性炭濃縮 蓄熱式催化燃燒系統(tǒng)去除VOCs氣體的方案。

工廠酸堿廢氣處理除塵設備脫硫塔設計工藝過程：噴淋洗滌塔采用(NaOH)溶液(或硫酸溶液)作為吸收液來凈化酸性(或堿性)氣體，酸性(或堿性)氣體由離心通風機吸入進風段后向動、而噴嘴噴出的中和液由上向下噴淋。從第二級中噴出的中和液與上升的酸性(或堿性)氣體進液接觸，吸收中和液往下濕淋第二級填料層，使從下往升的酸性(或堿性)氣體獲得氣液接觸吸收中和。中和液再向下淋級填料層。

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