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【磁控濺射鍍膜設(shè)備】使用注意事項(xiàng)
以下是沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。
磁控濺射鍍膜設(shè)備是目種鍍膜產(chǎn)品,相比傳統(tǒng)的水電鍍來講,磁控濺射鍍膜設(shè)備無毒性,能夠掩蓋,彌補(bǔ)多種水電鍍的缺陷。
近年來磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用,現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家大大小小的也非常多,但是專注于磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn),
經(jīng)驗(yàn)豐富的卻造磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家,就一定會(huì)有一定的規(guī)模,這類磁控濺射鍍膜設(shè)備不像是小件的東西,
磁控濺射鍍膜設(shè)備其技術(shù)含量非常的高,選購磁控濺射鍍膜設(shè)備時(shí)一定要先了解。
磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)含量高,磁控濺射機(jī)公司,那么就一定要擁有一個(gè)非常強(qiáng)大的磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)工程隊(duì)伍,
磁控濺射鍍膜設(shè)備行業(yè)資深的,磁控濺射鍍膜設(shè)備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設(shè)計(jì)配置。
磁控濺射鍍膜機(jī)的工作原理是什么?
磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與原子發(fā)生碰撞,電離出大量的離子和電子,電子飛向基片。離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng),該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長,在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與原子發(fā)生碰撞電離出大量的離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運(yùn)動(dòng)路徑,改變電子的運(yùn)動(dòng)方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。電子的歸宿不僅僅是基片,真空室內(nèi)壁及靶源陽極也是電子歸宿。但一般基片與真空室及陽極在同一電勢(shì)。磁場與電場的交互作用( E X B drift)使單個(gè)電子軌跡呈三維螺旋狀,而不是僅僅在靶面圓周運(yùn)動(dòng)。至于靶面圓周型的濺射輪廓,那是靶源磁場磁力線呈圓周形狀形狀。磁力線分布方向不同會(huì)對(duì)成膜有很大關(guān)系。在E X B shift機(jī)理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,磁控濺射機(jī)價(jià)格,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已
沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司本著多年磁控濺射產(chǎn)品行業(yè)經(jīng)驗(yàn),磁控濺射機(jī)多少錢,專注磁控濺射產(chǎn)品研發(fā)定制與生產(chǎn),先進(jìn)的磁控濺射產(chǎn)品生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù),磁控濺射機(jī),建立了嚴(yán)格的產(chǎn)品生產(chǎn)體系,想要更多的了解,歡迎咨詢圖片上的熱線電話?。?!
磁控濺射系統(tǒng)介紹
想了解更多關(guān)于磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)資訊,請(qǐng)持續(xù)關(guān)注本公司。
真空泵和測(cè)量裝置:
低真空:干泵和convectron真空規(guī)
高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī)
5.控制系統(tǒng):
硬件:PLC和計(jì)算機(jī)觸摸屏控制
自動(dòng)和手動(dòng)沉積控制
主要特點(diǎn):
射頻電源:基底預(yù)先清洗和等離子體輔助沉積
溫度控制器:基底加熱
大面積基底傳送裝置
冷卻系統(tǒng)
企業(yè): 沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司
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電話: 024-88427871
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