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電鍍?cè)O(shè)備-安徽宇明電鍍?cè)O(shè)備廠-全自動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備

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發(fā)布時(shí)間:2021-11-29 10:03  





設(shè)計(jì)條件。廢水種類、處理量及水質(zhì)情況如表1。設(shè)計(jì)每天運(yùn)行時(shí)間為6h。回用水水質(zhì)要求達(dá)到

HB5472-91的C類水標(biāo)準(zhǔn)[4]。由于不同廢水水質(zhì)差異較大,因此對(duì)廢水進(jìn)行分類預(yù)處理后,混合經(jīng)過(guò)膜

系統(tǒng)進(jìn)行深度處理,膜產(chǎn)水達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)回到電鍍生產(chǎn)線,膜濃水進(jìn)行蒸發(fā)結(jié)晶處理,形成的晶體鹽密

封外運(yùn)處理。1.2預(yù)處理。1.2.1工藝說(shuō)明。預(yù)處理工藝流程見圖1。1)含廢水。含廢水由調(diào)節(jié)池泵

入2級(jí)破反應(yīng)槽,2級(jí)分別投加和稀硫酸調(diào)節(jié)pH后,再投入次進(jìn)行氧化(一級(jí)破反應(yīng)

參數(shù):pH=10~11,氧化還原電位ORP=0.30~0.35V;二級(jí)破反應(yīng)參數(shù):pH=7~8,ORP=0.60~

0.65V),然后自流進(jìn)入還原槽1,在此槽加入調(diào)節(jié)pH在8.5左右,全自動(dòng)電鍍?cè)O(shè)備,并加入還原劑NaHSO3將多

余的NaClO進(jìn)行還原。待和酸堿廢水一起后續(xù)處理。


鍍鋅設(shè)備排風(fēng)原則

希望大家通過(guò)本文的介紹,可以對(duì)鍍鋅設(shè)備排風(fēng)原則等方面的內(nèi)容有一定的認(rèn)識(shí)與 了解。

1、設(shè)計(jì)局部排風(fēng)罩時(shí),應(yīng)根據(jù)有害氣體特性和散發(fā)規(guī)律,工藝設(shè)備的結(jié)構(gòu)及其操作特點(diǎn),合理地確定排風(fēng)罩的形式

和安裝方式。在不影響生產(chǎn)操作的情況下,應(yīng)盡可能設(shè)置密閉排風(fēng)罩,保證在排風(fēng)口處造成一定的風(fēng)速,以小的風(fēng)量、

的排除所散發(fā)的有害氣體。

2、同-類的槽子,排風(fēng)應(yīng)盡可能合并進(jìn)入同一個(gè)排風(fēng)系統(tǒng),但是一個(gè)完整的排風(fēng)系統(tǒng)內(nèi), 排風(fēng)點(diǎn)不宜過(guò)多,電鍍?cè)O(shè)備公司,否則每

個(gè)排風(fēng)點(diǎn)的排風(fēng)效果不易均衡。

3、提高槽邊排風(fēng)的效果,減少排放量,排風(fēng)罩盡量靠近槽沿位置,盡 量降低排風(fēng)罩距離液面的高度,在條件允許的

情況下,槽面上可設(shè)置密閉式活動(dòng)蓋板。當(dāng)槽面無(wú)法覆蓋時(shí),則可在液面上加蓋等鍍鋅,鍍鋅設(shè)備排風(fēng)原則以減少

液面有害氣體的揮發(fā)。



高耐蝕性防護(hù)裝飾鍍輅

20世紀(jì)50年代中期以來(lái),在防護(hù)裝飾性鎳/鉻或銅/鎳/鉻渡層體系中,多層鎳的應(yīng)用顯著提高了鍍件的耐蝕性能,進(jìn)一步的研究表明,鎳/鉻鍍層的耐蝕性能不僅與鎳層的生質(zhì)和厚度有關(guān),同時(shí)在很大程度上還取決于鍍層的結(jié)構(gòu)特征。鉻的電沉積與其他電鍍工藝相比不僅槽液特殊,而且形成金屬鉻的性質(zhì)也不同。如果在標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液(鉻酸酐250g/L.硫酸2.5g/L)中進(jìn)行鍍鉻,雖然鍍層厚度僅為0.25~0.5μm,但由于內(nèi)應(yīng)力高,鉻層表面分會(huì)產(chǎn)生稀疏的粗裂紋。這不僅造成鍍件外觀缺陷,電鍍自動(dòng)生產(chǎn)線更嚴(yán)重的是加重了底層的腐蝕,由于這一原因,發(fā)展了無(wú)裂紋鍍鉻工藝。雖然無(wú)裂紋鉻在加速腐蝕實(shí)驗(yàn)和暴露實(shí)驗(yàn)中具有良好的耐地性,電鍍?cè)O(shè)備,但在使用過(guò)程中,鉻層仍要產(chǎn)生粗裂紋。 在特定條件下,鉻層表面的裂紋和孔隙不僅無(wú)害,電鍍?cè)O(shè)備廠家,反而能提高整個(gè)鍍層體系的耐蝕性。20世紀(jì)60年代中期,國(guó)外對(duì)鍍鉻層微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,開發(fā)了更耐蝕性的微裂紋鉻和微孔鉻新工藝。


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