光學(xué)鍍膜機(jī)對于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因光學(xué)鍍膜機(jī)主要是由于基片凹凸嚴(yán)重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。改善對策：㈠ 條件許可，用行星夾具;㈡ 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺;㈢ 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。㈥ 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對邊緣鏡片的部分遮擋㈦ 清潔鏡圈()㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。

真空鍍膜設(shè)備的相關(guān)特性是什么呢？1.真空鍍膜設(shè)備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系.2.真空鍍膜設(shè)備節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當(dāng)優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達(dá)到節(jié)約的目的.3.真空鍍膜設(shè)備無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當(dāng)小。

空鍍膜設(shè)備廠家分析真空鍍膜設(shè)備保護(hù)環(huán)境的意義真空鍍膜設(shè)備對于環(huán)境也是有著非常重要的意義，所以市場對于真空鍍膜設(shè)備的使用率非常高，下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析保護(hù)環(huán)境的意義。真空鍍膜設(shè)備在電鍍中的應(yīng)用，可以優(yōu)先改善污染狀況，告別化學(xué)鍍膜使用的缺點。在真空環(huán)境下，蒸發(fā)鍍膜不產(chǎn)生任何污染和其他無害物質(zhì)，是一種綠色低碳的可持續(xù)發(fā)展。隨著社會的發(fā)展，許多企業(yè)開始使用這種真空鍍膜設(shè)備，提高了環(huán)保意識和環(huán)保意識。那么，發(fā)展綠色產(chǎn)業(yè)是一個的發(fā)展趨勢。該真空鍍膜設(shè)備的技術(shù)也帶領(lǐng)了電鍍行業(yè)的主流。因此真空鍍膜機(jī)鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關(guān)鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。