光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產生的原因光學鍍膜機主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。改善對策：㈠ 條件許可，用行星夾具;㈡ 選用傘片平坦(R大)的機臺;㈢ 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。㈥ 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋㈦ 清潔鏡圈()㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。

真空鍍膜設備的相關特性是什么呢？1.真空鍍膜設備沉積材料：可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設計涂層體系.2.真空鍍膜設備節(jié)約金屬材料：由于真空涂層的附著力、致密度、硬度、耐腐蝕性能等相當優(yōu)良，沉積的鍍層可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約的目的.3.真空鍍膜設備無環(huán)境污染：由于所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境的危害相當小。

空鍍膜設備廠家分析真空鍍膜設備保護環(huán)境的意義真空鍍膜設備對于環(huán)境也是有著非常重要的意義，所以市場對于真空鍍膜設備的使用率非常高，下面真空鍍膜設備廠家分析保護環(huán)境的意義。真空鍍膜設備在電鍍中的應用，可以優(yōu)先改善污染狀況，告別化學鍍膜使用的缺點。在真空環(huán)境下，蒸發(fā)鍍膜不產生任何污染和其他無害物質，是一種綠色低碳的可持續(xù)發(fā)展。隨著社會的發(fā)展，許多企業(yè)開始使用這種真空鍍膜設備，提高了環(huán)保意識和環(huán)保意識。那么，發(fā)展綠色產業(yè)是一個的發(fā)展趨勢。該真空鍍膜設備的技術也帶領了電鍍行業(yè)的主流。因此真空鍍膜機鍍膜時，膜層的好壞，氣體啟著關鍵性的作用，是鍍膜環(huán)節(jié)不可或缺的一步。