首先采用深反應離子刻蝕制作微通道，然后沉積派瑞林涂層C在微通道上，同時派瑞林涂層沉積在純鐵片上，在其上制作金電極，在200℃真空箱內將派瑞林涂層鍵合，鍵盤真空鍍膜，剝去純鐵片以及采用特殊工藝釋放（Parylene）涂層微通道。通過控制（Parylene）涂層沉積的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深寬比的派瑞林涂層微通道，同時也可以制作多層結構微通道。用此方法制作的各種微通道(所有微通道的內徑為80μm寬、50μm深、壁厚為10μm)。通過此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂層微通道，并通過釋放工藝可以獲得很好的派瑞林涂層微通道，同時可以重復使用硅模，普遍用于氣相色譜分析等微流體系統(tǒng)分析中。派瑞林涂層阻滯性佳，濕氣及氣體滲透性極低，具高屏障效果，抗酸堿性。

金屬腐蝕的臨界相對濕度大約為70%。當相對濕度達到或超過這個臨界濕度時，鹽將潮解而形成導電性能良好的電解液。當相對濕度降低，鹽溶液濃度將增加直至析出結晶鹽，腐蝕速度相應降低。溫度升高，分子運動加劇，高鹽霧腐蝕速度越快。國際電工指出：溫度每升高10℃，中山鍵盤真空鍍膜，腐蝕速度提高2～3倍，電解質的導電率增加10～20%。對于中性鹽霧試驗，佛山鍵盤真空鍍膜，一般認為試驗溫度選在35℃較為恰當。

濃度在5%以下時，鋼、鎳、黃銅的腐蝕速度隨濃度的增加而增加；當濃度大于5%時，這些金屬的腐蝕速度卻隨著濃度的增加而下降。這是因為，在低濃度范圍內，氧含量隨鹽濃度的增加而增加；當鹽濃度增加到5%時，鍵盤真空鍍膜，氧含量達到相對的飽和，如果鹽濃度繼續(xù)增加，氧含量則相應下降。氧含量下降，氧的去極化能力也下降即腐蝕作用減弱。對于鋅、鎘、銅等金屬，腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。

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