真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)的原理及監(jiān)控方法

真空鍍膜設(shè)備的金屬罩體通過安裝孔然后以焊接的方式固定在真空鍍膜機(jī)的外壁上，待冷卻的外壁通過加強(qiáng)圓槽形成渠道，這樣確保了冷卻的流通，也避免的死角現(xiàn)象的產(chǎn)生，有效的對鍍膜機(jī)進(jìn)行了快速的降溫，降低了油泵的溫度，加強(qiáng)了冷卻的強(qiáng)度，結(jié)構(gòu)簡單，等有點，在真空鍍膜機(jī)冷卻外殼上包括金屬罩體的原因是數(shù)個排列有序，并且內(nèi)凹的加強(qiáng)圓槽，所述加強(qiáng)圓槽呈半球形或圓錐臺形；在所述加強(qiáng)圓槽底部設(shè)有用連接現(xiàn)有真空鍍膜機(jī)的待冷卻外壁的安裝孔，所述金屬罩體通過安裝孔并以焊接方式固定在現(xiàn)有真空鍍膜機(jī)的待冷卻外壁上，在所述金屬罩體與待冷卻外壁之間通過加強(qiáng)圓槽構(gòu)成循環(huán)通道，根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機(jī)循環(huán)冷卻系統(tǒng)用冷卻外殼，其特征在于，在所述金屬罩體上相鄰兩所述加強(qiáng)圓槽的縱橫間距為100-300mm,上述加強(qiáng)圓槽槽深為12_15mm,所述金屬罩體的厚度為2-5_，根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空鍍膜機(jī)循環(huán)冷卻系統(tǒng)用冷卻外殼，其特征在于，所述加強(qiáng)圓槽的大直徑為24-136mm。

真空PVD鍍膜基本步驟

1、前處理工藝：褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾。

2、鍍膜工藝：抽真空、加熱烘烤、漏率測試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐。

3、后處理工藝：清洗：確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量。抽真空：將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走。加熱烘烤：爐體和工件同時加熱，加速殘余氣體的釋放。壓升率測試：測試爐體的漏氣率和放氣率。轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面。鍍膜：沉積膜層。冷卻：避免工件氧化變色。

什么是真空鍍膜技術(shù)？

所謂真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，對于蒸發(fā)源與基板距離較遠(yuǎn)和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低。