離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產品表面防腐方法

不銹鋼基材通常會用拋光、拉絲、噴砂、化學蝕刻、激光雕刻、數(shù)控機床雕刻等作表面美工處理，有的還用激光焊接，水法電鍍鎳鉻層等。那么離子真空鍍膜機啟到了很關鍵的作用，今天至成小編為大家講解一下離子真空鍍膜機鍍膜工藝及鍍膜產品表面防腐方法。

其實大家都知道，以上介紹幾種不銹鋼基材表面處理方法，各自有各自的優(yōu)勢和劣勢。如：拋光作業(yè)會在工件上殘留難以去除的硬化了的拋光蠟；尼龍輪拉絲在拉絲溝上會殘留透明的不易發(fā)現(xiàn)的高分子化合物；砂輪拉絲可能殘留磨粒和粘結劑，或因摩擦過熱產生氧化皮；噴砂會有陶瓷砂粒﹑玻璃砂粒、氧化鋁砂粒殘留鑲嵌在表面上；化學蝕刻會有腐蝕產物殘留在腐蝕坑內，或在其它非腐蝕表面上殘留用于防腐蝕的保護物質；激光雕刻處理會產生高溫氧化皮和燒蝕基體碎片殘留；數(shù)控機床雕刻會有高溫氧化皮和切削油殘留，還會有基材碎片被壓入基體上；激光焊接也會導致高溫氧化等；水法電鍍鉻層會生成難以去除的復雜氧化物，這些處理引起的污染不清除會導致離子鍍過程打火、鍍層假附著、掉膜、顏色不均等不良。

在離子真空鍍膜機鍍產品中美工處理方式往往不是單一的，而是多種作業(yè)組合，這更增加了鍍前清洗的困難。采用傳統(tǒng)的超聲去油除蠟的方法是不能勝任的，必須調整清洗工藝，對不同的污染，可選擇機械清除、氣相清洗﹑真空加熱后再清洗、陰極電解﹑陽極電解、或采用針對性的清洗劑等等。這些綜合措施可取得較好的效果，但對有些污染仍未找到理想的解決辦法。新近等離子體拋光方法應用到鍍前清洗是值得關注的技術，該技術在某些鍍層的褪鍍取得良好效果。

多弧離子真空鍍膜機工藝如何運用到刀具行業(yè)

很多人對多弧離子真空鍍膜機其實并不太了解，更不了解鍍膜設備的工藝如何運用到刀具行業(yè)，很多客戶都有這樣的疑惑，也經常會問我們這方面的問題，特別是對真空設備的愛好者，今天至成真空小編為大家詳解介紹一下多弧離子真空鍍膜機工藝如何運用到刀具行業(yè)。

為了滿足鍍膜制和各種多層薄膜及復合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發(fā)展的方向。多弧離子鍍膜設備采用電弧放電的方法，在固體的陰極靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰極弧光輝點放出的陰極物質的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進技術，克服直流濺射固有的打火等不良弊病，使鍍件的耐蝕性能又有所提高和改善。

多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術離化率高、沉積速率高的特點，還能有效地降低平面多弧靶沉積過程中很難避免的“液滴”的缺陷，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個平面多弧蒸發(fā)源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復合膜。復合式離子鍍膜設備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質的蒸發(fā)源及發(fā)射靶，它們既可以獨立地分別工作又可以同時工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復合膜，用途極其廣泛。

PET真空鍍膜設備相關問題的解決方法

PET真空鍍膜設備平均水消耗量為0.6m3/小時，每小時平均耗電：850W，每30天更換5次過濾芯，更換過濾芯數(shù)量20只，每天消耗過濾芯數(shù)量：0.7只，過濾芯可后級更換前級，更換周期也可根據具體情況延長。

設備在交付時會提供操作、調試、維修等一系列全套技術資料，包括操作和維修手冊。維修手冊中含電路圖、氣路圖、水管路圖，并列出控制設備、控制元件、易耗品以及易磨損的部件名稱、型號、規(guī)格、制造商或供應商，以便用戶可以隨時修理與維護清洗設備。