13B雙面研磨機(jī)

主要特點(diǎn)：

1． 變頻器配合異步電動(dòng)拖動(dòng)，實(shí)現(xiàn)了軟啟動(dòng)，軟停止，調(diào)速穩(wěn)定，沖擊??；

2． 采用三電機(jī)同步拖動(dòng)，變速范圍更廣，能適應(yīng)不同拋光材料及拋光工藝的要求；

3． 太陽(yáng)輪與內(nèi)齒圈同步升降，滿足了取放工件及調(diào)整游輪嚙合位置的要求；

4． 上下拋光盤(pán)采用斜齒輪傳動(dòng)，運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)；

5． 采用PLC控制，壓力采用電—?dú)獗壤y與拉力傳感器進(jìn)行閉環(huán)反饋控制，壓力過(guò)程實(shí)現(xiàn)了準(zhǔn)確控制；

6． 應(yīng)用人機(jī)界面（PT）與PLC通訊，一方面顯示運(yùn)行參數(shù)，另一方面通過(guò)其觸摸鍵調(diào)整設(shè)定各項(xiàng)工藝參數(shù)，主操作由普通鍵鈕完成。

7． 采用集中潤(rùn)滑裝置，各相對(duì)運(yùn)動(dòng)表面、齒輪嚙合部位都可得到充分潤(rùn)滑，大大提高了整機(jī)的使用壽命；

8． 上盤(pán)采用較新的“浮動(dòng)”連接裝置，解決了錯(cuò)盤(pán)問(wèn)題；

9． 采用水液分離機(jī)構(gòu)，自動(dòng)化程度高，操作方便；

10．配置手持式拋光盤(pán)清洗裝置。

精度指標(biāo):

主機(jī)精度：

1．下拋光盤(pán)端跳：        0.05mm

2．上下拋光盤(pán)平面度：    0.015mm

3. 太陽(yáng)輪徑向跳動(dòng)：      0.06mm

4．齒圈徑向跳動(dòng)：        0.10mm

加工精度（四個(gè)修平器研后）

1．一致性               ±0.0055mm

2. 平面度               0.004mm  

3. 平行度               0.005mm

加工能力：

單片承片量： 8片/Φ75mm、5片/Φ100mm

整盤(pán)承片量：  40片/Φ75mm、25片/Φ100mm

平面研磨機(jī)加工技術(shù)介紹

平面研磨機(jī)加工技術(shù)是降低工件表面粗糙度、去除損傷層，獲得高形狀精度、表面精度和表面完整性的終加工手段。以不改變工件材料物理特性為前提的超精密加工需要使工件的形狀精度和表面粗糙度分別達(dá)到亞微米級(jí)、納米級(jí)，甚至追求更高表面完整性的無(wú)損傷拋光技術(shù)。它支持著新科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，促進(jìn)了超精密加工新技術(shù)的迅速發(fā)展。平面研磨機(jī)，平面拋光機(jī)，平面研磨拋光機(jī)。

提高研磨效率和精度是超精密研磨加工領(lǐng)域急需解決的問(wèn)題。但由于工件加工過(guò)程中消耗的各種磨料、冷卻液、產(chǎn)生的加工殘余廢棄物等對(duì)環(huán)境造成不利影響，特別是依靠電化學(xué)、磁力研磨等拋光手段產(chǎn)生的廢棄液會(huì)對(duì)環(huán)境造成極大的污染，所以復(fù)雜曲面的超精密研磨加工，除了迫切需要提高研磨精度和效率之外，還面臨著如何解決成本的高低和環(huán)境友好性等問(wèn)題，因而能否開(kāi)發(fā)出具有、低成本和環(huán)境友好的復(fù)雜曲面超精密加工方法成了超精密研磨加工領(lǐng)域的重要研究課題。

研磨機(jī)生產(chǎn)有哪些制作的方法呢?

制備方法有濕法和干法。濕法制品結(jié)晶細(xì)小、顆粒柔軟、較易研磨，易于作顏料。干法制品結(jié)晶大、顆粒堅(jiān)硬，雙面研磨機(jī)廠家，適宜作磁性材料、拋光研磨材料。

當(dāng)與鐵屑反應(yīng)，經(jīng)冷卻結(jié)晶、脫水干燥，經(jīng)研磨后在600～700℃煅燒8～10h，在經(jīng)水洗、干燥、粉碎制得雙面研磨機(jī)廠家紅產(chǎn)品。也可以氧化鐵黃為原料，經(jīng)600～700℃煅燒制得氧化鐵紅。

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