8、使用氫氣前，必須對設(shè)備、管道、閥門等連接點泄露進(jìn)行認(rèn)真仔細(xì)的檢查；并用肥皂水或攜帶式可燃性氣體爆檢測儀進(jìn)行檢查，禁止用明火檢查。  

9、氫氣系統(tǒng)設(shè)備運行時，嚴(yán)禁敲擊、帶壓緊固和維修，特種氣體，不得超壓，禁止處于負(fù)壓狀態(tài)。  

10、使用新氫氣管接頭（新事故槍接頭）時，必須進(jìn)行清l脂脫油處理。  

11、切割結(jié)束，關(guān)閉氫氣、氧氣后，要對割嘴再點火，使氫氣管道內(nèi)余下的氫氣充分燃燒完，避免下次點火發(fā)生爆l炸或氫氣管子發(fā)生燃燒l傷人。  

12、使用氫氧火焰，閥門操作順序為：點火時，先開氫氣閥，點燃后，開氧氣閥；停用時，先關(guān)氧氣閥，熄滅后，關(guān)氫氣閥。  

13、氫氣吹洗臵換、放空降l壓，必須通過排放管排放。

14、氫氣系統(tǒng)停運后，應(yīng)有盲板或其他有效隔離措施隔斷，應(yīng)使用符合安全要求的惰性氣體進(jìn)行臵換吹掃，氫氣系統(tǒng)內(nèi)氧或氫含量至少連續(xù)2次分析合格。  

15、氫氣作焊接、切割、燃料和保護(hù)氣等使用時，每臺（組）用氫設(shè)備的支管上應(yīng)設(shè)阻火器。

三氟化氮主要用途是用作氟化l氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學(xué)激光器中有希望的激光器。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。

高純氣體 高純氦氣純度(V/V)：99.999%執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) ：：產(chǎn)品介紹： 用于氣球、溫度計、電子管、潛水服等的充氣。健康危害 本品為惰性氣體，高濃度時可使氧分壓降低而有窒息危險。當(dāng)空氣中氦濃度時，患者先出現(xiàn)呼吸加快、注意力不集中l(wèi)   共濟(jì)失調(diào)；繼之出現(xiàn)疲倦無力、煩躁不安、惡心、嘔吐、昏迷、抽搐，以致。吸入 迅速脫離現(xiàn)場至空氣新鮮處。保持呼吸道通暢。如呼吸困難，給輸氧。如呼吸停止，立即進(jìn)行人工呼吸。就醫(yī)。

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