碳化硅冶煉生產(chǎn)中反爐料是指從上一冶煉爐中得到各種物料、產(chǎn)物可以回收利用到下一冶煉爐中繼續(xù)使用的物料。包括了舊爐芯體、分解石墨、細(xì)結(jié)晶、無定形物、粘合物、氧碳化硅、保溫料、焙燒料等；Sic含量較高的細(xì)結(jié)晶、無定物、結(jié)合物、氧碳化硅以及沉淀砂、收塵器中的碳化硅細(xì)粉的混合物；可以回爐投入到碳化硅冶煉爐的反應(yīng)區(qū)，這是真正意義上的回爐料。

碳化硅微粉是應(yīng)用較早、使用較大的微粉之一，0-10mm碳化硅公司，在目前市場銷售耐火材料用的碳化硅微粉多采用機械粉碎法，其粒徑約為1-5微米之間，0-10mm碳化硅廠家，而精細(xì)陶瓷所用碳化硅微粉制取則主要采取氣相反應(yīng)合成法，該法已有很成熟的工藝，但是，山東0-10mm碳化硅，由于傳統(tǒng)的加熱技術(shù)難以控制反應(yīng)氣體分子的時間，近年來又發(fā)展了以激光作為熱源的氣相合成法—激光誘發(fā)氣相化學(xué)反應(yīng)法，它不僅使用于碳化硅，0-10mm碳化硅供應(yīng)商，同樣也適用于制Si、Si3N4、B、B4C、ZrB2、TiO2、TiB2、Al2O3等微粉。

碳化硅主要有四大應(yīng)用領(lǐng)域，即：功能陶瓷、耐火材料、磨料及冶金原料。碳化硅粗料已能大量供應(yīng)，不能算高新技術(shù)產(chǎn)品，而技術(shù)含量極高 的納米級碳化硅粉體的應(yīng)用短時間不可能形成規(guī)模經(jīng)濟(jì)。主要用途：用于3—12英寸單晶硅、多晶硅、石英晶體等線切割。太陽能光伏產(chǎn)業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、壓電晶體產(chǎn)業(yè)工程性加工材料。大家有需要就聯(lián)系我們吧。

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