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電鍍加工廠-德鴻表面處理(在線咨詢)-蕪湖電鍍加工

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發(fā)布時(shí)間:2024-11-09 04:03  
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視頻作者:蕪湖縣德鴻表面處理有限公司





電鍍性能測(cè)試,你了解幾個(gè)?

內(nèi)應(yīng)力測(cè)試

鍍層內(nèi)應(yīng)力是指在沒有外加載荷的情況下,銅電鍍加工,鍍層內(nèi)部所具有的一種平衡應(yīng)力。這種應(yīng)力是在電鍍過程中受到一些沉積因素的影響,引起金屬晶格缺陷所致。鍍液中的某些金屬離子、陰離子以及有機(jī)添加劑,都會(huì)顯著增加鍍層的內(nèi)應(yīng)力。鍍層內(nèi)應(yīng)力會(huì)導(dǎo)致鍍層在儲(chǔ)存、使用過程中產(chǎn)生氣泡、開裂、剝落等現(xiàn)象,在外力作用時(shí),還會(huì)引起應(yīng)力腐蝕和降低疲勞強(qiáng)度等。測(cè)定鍍層內(nèi)應(yīng)力的方法有:彎曲陰極法,剛性平帶法,螺旋收縮儀法等,測(cè)試方法可參考ASTM B636。

氫脆性及延展性測(cè)試

鍍層脆性是鍍層物理性能中的一項(xiàng)重要指標(biāo)。脆性存在往往會(huì)導(dǎo)致鍍層開裂,結(jié)合力下降,乃至直接影響的使用價(jià)值。鍍層脆性的測(cè)試,一般通過試樣在外力作用下使之變形,直至鍍層產(chǎn)生裂紋,然后以鍍層產(chǎn)生裂紋時(shí)的變形程度或撓度值大小,作為評(píng)定鍍層脆性的依據(jù),測(cè)試可參照標(biāo)準(zhǔn)ASTM F519。

鍍層的延展性是指鍍層在外力的作用下,產(chǎn)生塑性變形或彈性變形時(shí),或者兩種變形同時(shí)產(chǎn)生時(shí),鍍層不發(fā)生斷裂或開裂的能力。測(cè)定鍍層脆性的方法有延遲破壞試驗(yàn),緩慢彎曲試驗(yàn),應(yīng)力環(huán)試驗(yàn)等;測(cè)定鍍層韌性的方法有拉伸試驗(yàn)法和彎曲試驗(yàn)法,可參照的標(biāo)準(zhǔn)有:GB/T 15821, ASTM B489, ASTM B490。





防止電鍍掉色

電鍍就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程,是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如銹蝕),提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進(jìn)美觀等作用。不少錢的外層亦為電鍍。

利用電解池原理在機(jī)械制品上沉積出附著良好的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù)。電鍍層比熱浸層均勻,一般都較薄,從幾個(gè)微米到幾十微米不等。通過電鍍,可以在機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層,還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件。

在使用封閉劑封閉后再使用光油貨其他封閉方法再封閉。

電鍍后褪色的主要原因是鍍層和空氣中的氧或者其他分子進(jìn)行了反映,使得鍍層表面的顏色發(fā)生改變。

解決這種情況的主要辦法就是隔絕空氣,大多數(shù)情況下平時(shí)都使用封閉劑進(jìn)行封閉。但是不是所有封閉劑都能用的。以銅鍍層來說,用的比較多的就是BTA,但是一種封閉方法很難達(dá)到預(yù)期效果,在BTA封閉后還會(huì)用光油或者其他封閉方法進(jìn)行封閉。

以上是德鴻表面處理公司為大家介紹電鍍的相關(guān)內(nèi)容




鍍耐磨鉻是種功能性電鍍,主要目的是利用鉻的特性以提高機(jī)械零件的硬度、耐磨、耐濕 和耐蝕等物化性能。隨著電鍍的優(yōu)勢(shì)越來越高,廠家的備受喜歡。下面德鴻表面處理公司小編為大家詳細(xì)介紹相關(guān)的內(nèi)容。

耐磨鉻的應(yīng)用非常廣泛,如機(jī)械模具、塑料模具、玻璃模具、化工耐蝕閥門、發(fā)動(dòng)機(jī)曲軸,汽虹活塞和活塞環(huán)、光學(xué)刻度尺、印刷滾筒、紡織印花滾筒、造紙滾筒以及工具、量具、切削刀具等。這些產(chǎn)品經(jīng)過鍍耐磨鉻后,可以延長使用壽命。耐磨鉻的另一個(gè)用途是修復(fù)磨損零件和切削過度的工件,使這些零件重復(fù)使用。

需要鍍耐磨鉻的零件,蕪湖電鍍加工,大多是碳鋼基體,電鍍加工廠,亦有鋁和鋁合金、鋅合金、不銹鋼以及高合金鋼等材料?;w材料都必須按照各自的特性和電鍍工藝的妻求進(jìn)行鍍前處理。

耐磨鉻層的厚度般為2~50μm, 根據(jù)零件的要求選擇。零件的修復(fù)鍍絡(luò)厚度可達(dá)800~1000μm。對(duì)于鋼鐵零件不需用中間鍍層。

現(xiàn)在國內(nèi)大多采用普通鍍鉻溶液鍍耐磨鉻,其配方和工藝條件如下:

鉻酸酐 225~ 250g/L

硫酸 2.25~ 2.50g/L

三價(jià)鉻 3~8g/L溫度 50~ 60°C

電流密度 55~ 60A/dm2






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