等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi)，因此等離子化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。等離子就是在高溫高壓下，拋光鹽水溶，在高溫高壓下，電子會脫離原子核而跑出來，電漿拋光，原子核就形成了一個帶正電的離子，電漿拋光加工廠家，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，電漿拋光加工，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果。 對工件的任何一個面都能拋光。

等離子拋光工藝的要求

（1） 工件在等離子拋光前必須除油，并用去污粉擦洗，以免油污污染拋光槽液。

（2） 陰極與陽極面積比。陰極面積控制在陽極面積的1/2～1/3.5。在此情況下可以防止三價鉻的增長，過多的三價鉻在陽極表面被氧化成六價鉻。三價鉻含量過多，易使拋光液老化

（3） 陰陽極之間的距離。陰極與陽極之間的距離過大、電阻增大，電能消耗增大，溶液容易升溫，影響拋光質(zhì)量。距離過小，易造成短路打火，等離子電漿拋光，燒黑制品。陰極與陽極之間的距離以100～300mm為宜。

等離子拋光技術(shù)是一種全新的新型拋光工藝技術(shù)，它主要是通過不銹鋼拋光技術(shù)發(fā)展而來的，是一種高科技的現(xiàn)代化技術(shù)?，F(xiàn)在的人們對于怎么將等離子拋光運(yùn)用好這一問題十分關(guān)注，因?yàn)槿绻己玫倪\(yùn)用這一技術(shù)，便可以讓我們的時間節(jié)約很好，并且成本也下降很多。

   在一些高溫和高壓的環(huán)境下，拋光鹽會在水中溶解，然后它們中的電子會從原子核的束縛之中脫離出來，這樣一來，原子核就變成了一個只帶著正點(diǎn)的離子。如果這些離子的數(shù)量足夠多的時候，它們會互相作用形成一種等離子態(tài)，這種形態(tài)會具有非常大的能量，然后它們需要拋光的物體表面進(jìn)行相互摩擦，就可以在短暫的時間之內(nèi)使得那些物體的表面變得十分光亮，這樣一種拋光技術(shù)對于一些工件的每一個面都可以產(chǎn)生效果，這種方法就是等離子拋光。

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