電解質(zhì)-等離子拋光的生產(chǎn)效率是機(jī)械拋光的5-6倍，是電化學(xué)拋光的3-4倍，而且相對(duì)化拋還非常環(huán)保；除了可以?huà)伖?、去毛刺，它還可以除油、變性處理。

等離子拋光原理：等離子也稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下，拋光劑水溶，在高溫高壓下，等離子拋光價(jià)格，電子會(huì)脫離原子核而跑出來(lái)，原子核就形成了一個(gè)帶正電的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，等離子拋光廠(chǎng)家，當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果。

對(duì)工件的里面一樣拋光光亮。這塊運(yùn)用這種等離子拋光主要作用在去除人工打磨紋路，少一次清洗程序，增加美觀(guān)度，成品率高。由于手工開(kāi)初和人工打磨精光的時(shí)間成本基本相同，茂名等離子拋光，結(jié)合等離子拋光節(jié)約一定的成本，主要效用為大大提，提高成品率。

等離子納米拋光是一種全新的金屬表面處理工藝——僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，金屬等離子拋光，處理深度為0.3-1.5納米。

拋光工藝一般從沖壓出完全成型產(chǎn)品開(kāi)始，后續(xù)工序一般有鐳射，電鍍，噴油等。拋光一般采用手工拋光，或者是手工拋光和等離子拋光結(jié)合。手工拋光即手工打磨，靠產(chǎn)品和麻，線(xiàn)，布輪的摩擦作用。手工拋光工藝缺點(diǎn)明顯。?? 

等離子拋光工藝還有退掉鍍膜的功效，我們只要通過(guò)特定的拋光劑，在短的時(shí)間（30～180s）內(nèi)就可以完全脫掉鍍膜。這樣大大節(jié)省脫膜時(shí)間。對(duì)于那些表面真空鍍氮化碳或氮化鉻的產(chǎn)品，脫膜相對(duì)較難，通過(guò)等離子拋光也能去完全將表面膜層去除干凈，但是拋光時(shí)間需要延長(zhǎng)一倍以上。雖說(shuō)拋光時(shí)間相對(duì)增加，但任然不會(huì)傷到基材表面，相反會(huì)大大增加返鍍的良率（因?yàn)榈入x子拋光能很好提高表面的光澤度，降低表面粗糙度，使表面平滑，光潔，導(dǎo)電性能好）。

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