等離子拋光也稱電漿拋光。主要用于五金件產(chǎn)品的拋光以及真空鍍膜的前處理，在表面處理行業(yè)屬于新的工藝，本文將在等離子拋光的工作原理、應(yīng)用優(yōu)勢以及在表面處理行業(yè)的應(yīng)用來說明它與真空鍍膜的協(xié)調(diào)性。

等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝，電漿拋光廠家，僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，電漿拋光，處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi)，因此等離子化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

電漿拋光

主要特點:

(1)根據(jù)工件尺寸的不同，可以使工件在幾十秒至2分鐘內(nèi)達到近鏡面的拋光效果，使后續(xù)處理十分方便;

(2)在拋光過程中有效去除沖壓件或其它制造件的邊角毛刺;

(3)拋光過程中使工件表面產(chǎn)生一層鈍化膜，使其保持耐久光亮，增強拋光面的抗腐蝕性能;

(4)拋光均勻程度，整個工件表面甚至于所有死角部位都可達到一致的近鏡面效果;

(5)拋光過程由電參數(shù)控制，全過程采用進口PLC自動化控制，操作簡單，維護方便;

(6)生產(chǎn)，電漿拋光廠，生產(chǎn)成本低;

(7)拋光過程不產(chǎn)生化學(xué)污染【低濃度藥劑(95%~97%水 3%~5%的藥品，PH值約6.5~7)】.    

(8)清潔能力:EDTM系統(tǒng)不但定位為快速拋光機構(gòu)之外，同時亦適合作為各種形狀合金表面的去污、除脂、去氧化層、清潔殘留雜質(zhì)及化學(xué)，提供工件表面鍍膜前的前置處理。

電漿拋光

等離子拋光技術(shù)在領(lǐng)域的應(yīng)用

超精密拋光工藝在現(xiàn)代制造中有著重要的地位，其應(yīng)用的領(lǐng)域涵蓋：集成電路制造、數(shù)碼配件、精密模具、航工航天及。

電漿拋光

等離子拋光應(yīng)用領(lǐng)域及拋光效果

  3C電子、 運動器材、汽車配件、器材、潔具餐具、手表飾品、模具、航空航天，該技術(shù)主要用于對不銹鋼、銅合金、鈦合金、低碳鋼等金屬零部件的拋光、去毛刺，可以解決航天領(lǐng)域中諸如閥體去毛刺等世界難題。

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