PECVD鍍膜：利用等離子體增強化學氣相沉積技術將材料氣體在等離子體作用下分解并沉積在基底表面形成薄膜。PECVD鍍膜的薄膜材料選擇范圍廣，附著力強，精度高，適用于復雜形狀和高質量要求的鍍膜。但是，PECVD鍍膜設備復雜、成本較高?？傊?，真空鍍膜是一種具有重要應用價值的物理氣相沉積技術，其附著力強、精度高、耐腐蝕特種燈具反光杯

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   真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術，通常稱為干式鍍膜技術。可完成你所需要的單層及復合涂層，我們?yōu)槟闾峁┑牟粌H僅是產品質的涂層，還有你真正需要的技術支持和技術的服務真誠希望我們成為你的信賴的合作伙伴。目前世界通用的PVD技術均為高溫技術，涂層溫度均在450度以上。此技術有效解決了高溫所帶來的種種弊端，如高溫回火，材料變形，焊縫開裂，脫落等等。



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