半導體設備及材料需要檢漏原因

1、半導體設備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發(fā)臺、ICP、PECVD等設備。出現泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間，耗時耗力；

2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆?；驂m埃就會對晶元造成污染，對半導體的特性改變并破壞其性能，因此在半導體器件生產過程中必須進行氦質譜檢漏；

3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經過氦質譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設備能及時抽走未反應氣體和氣態(tài)反應產物，蒸發(fā)器氦檢漏報價，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。

4、芯片封裝，一旦出現泄漏，芯片就會失效。

真空箱式氦檢漏設備

適用對各類被檢要求氣密性漏率的產品（以下簡稱工件）進行真空法檢漏。同步對工件和真空箱抽真空，使工件內外壓差不大0.04Mpa，對被檢工件充注氦氣，應用真空箱法進行氦質譜氣密性檢測，電子器件氦檢漏報價，通過該裝置判斷出被檢工件中的合格與不合格。然后將被檢工件內的氦氣回收循環(huán)使用，向工件內充入規(guī)定壓力的SF6工作氣體。系統(tǒng)嚴格按照客戶的要求設計制造，采用模塊化的設計，充分考慮客戶的檢漏要求，同時也盡可能采用標準化的模塊和部件，保證了系統(tǒng)的可靠性和可維護性。設備適應用電力行業(yè)，家用空調，制冷行業(yè)，汽車行業(yè)，新能源行業(yè)的氣密性檢測、應具有氣體充注。大漏判定功能，微漏定量檢漏功能，工件泄漏總的判定功能，并能滿足連續(xù)生產的需求，具有較高的自動化程度，操作簡便、可靠、安全。

氦質譜檢漏原理

氦質譜檢漏技術是以無色、無味的惰性氣體氦氣為示蹤介質、以磁質譜分析儀為檢測儀器，用于檢漏的一種檢測技術，它的檢漏靈敏度可達10-14～10-15Pa?m3/s，可以準確確定漏孔位置和漏率。氦質譜檢漏儀主要由質譜室、真空系統(tǒng)組件和電子學控制元件三大部分組成。質譜室接在分子泵的高真空端，入口接在分子泵和機械泵之間，利用分子泵對不同氣體具有不同壓縮比的特點，氦氣逆著分子泵的抽氣方向進入質譜室。檢漏儀在質譜室中將氣體電離，這些離子在加速電場的作用下進入磁場，在洛倫茲力作用下發(fā)生偏轉，由于不同荷質比的離子具有不同的電磁學特性，偏轉半徑各不相同，在擋板的作用下，氦檢漏儀的收集板只允許帶正電的氦離子被接收到，單位時間到達收集板的氦離子對應于一個電流信號，這個電流信號正比于進入到達收集板氦離子的數量，電流信號經過放大后顯示在質譜儀的顯示面板上，其大小反映了泄漏點的漏率，通過泄漏率大小來確定該位置泄漏程度的大小。

氦質譜檢漏儀的示蹤氣體選用氦氣，是因為氦氣具有以下優(yōu)良特性：

①氦氣在空氣中的含量少，體積含量為5.24×10-6，如果氦氣在環(huán)境中的含量超過標準，可以比較容易地探測到極微量的氦氣；

②氦分子小、質量輕、易擴散、易穿越漏孔、易于檢測也易于清除；

③氦離子荷質比小，易于進行質譜分析；

④氦氣是惰性氣體，氦檢漏報價，化學性質穩(wěn)定，不會腐蝕和損傷任何設備；

⑤氦氣無毒，不凝結，極難容于水。

今天科創(chuàng)真空小編和大家分享的是氦質譜檢漏的工作原理，希望對您有所幫助！

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