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公司簡介
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關(guān)于我們

發(fā)布時間:2025-05-06 06:18  

鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司(簡稱:鵬城半導(dǎo)體),由哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)與有多年實踐經(jīng)驗的工程師團隊共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿與市場前沿的交叉點,尋求創(chuàng)新引領(lǐng)與可持續(xù)發(fā)展,解決產(chǎn)業(yè)的痛點和國產(chǎn)化難題,爭取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。


公司核心業(yè)務(wù)是半導(dǎo)體材料、工藝和裝備的研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)制造

公司人才團隊知識結(jié)構(gòu)完整,有以哈工大教授和博士為核心的高水平材料研究和工藝研究團隊;還有來自工業(yè)界的**裝備設(shè)計師團隊,他們具有20多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗。

公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳),具備先進的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺和檢測設(shè)備平臺,可以在高起點開展科研工作。公司總部位于深圳市光明區(qū),設(shè)有中試基地,并在沈陽市設(shè)有全資子公司,具備半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及半導(dǎo)體材料與器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。

公司已投放市場的部分半導(dǎo)體設(shè)備

|物理氣相沉積(PVD)系列

磁控濺射、電子束、熱蒸發(fā)鍍膜機,激光沉積設(shè)備PLD

|化學(xué)氣相沉積(CVD)系列

MOCVD、PECVD、LPCVD、微波等離子體CVD、熱絲CVD、原子層沉積設(shè)備ALD

|超高真空系列

分子束外延系統(tǒng)(MBE)、激光分子束外延系統(tǒng)(LMBE)

|成套設(shè)備

團簇式太陽能薄膜電池中試線、OLED中試設(shè)備(G1、G2.5)

|其他

金剛石薄膜制備設(shè)備、合金退火爐、硬質(zhì)涂層設(shè)備、磁性薄膜設(shè)備、電極制備設(shè)備

|真空鍍膜機專用電源/真空鍍膜機控制系統(tǒng)及軟件

直流濺射電源、RF射頻濺射電源、高精度熱蒸發(fā)電源、高能直流脈沖電源(中頻可調(diào)脈寬)

控制系統(tǒng)及軟件

團隊部分業(yè)績分布


完全自主設(shè)計制造的分子束外延(MBE)設(shè)備,包括自主設(shè)計制造的MBE超高真空外延生長室、工藝控制系統(tǒng)與軟件、高溫束源爐、高溫樣品臺、Rheed原位實時在線監(jiān)控儀(反射高能電子衍射儀)、直線型電子槍、膜厚儀(可計量外延生長的分子層數(shù))、射頻源等關(guān)鍵部件。真空度達到2×10-8Pa。


設(shè)備于2005年在浙江大學(xué)光學(xué)儀器國家重點實驗室投入使用,至今仍在正常使用。

設(shè)計制造磁控濺射與等離子體增強化學(xué)氣相沉積法PECVD技術(shù)聯(lián)合系統(tǒng),應(yīng)用于團簇式太陽能薄膜電池中試線。使用單位中科院電工所。


設(shè)計制造了金剛石薄膜制備設(shè)備,應(yīng)用于金剛石薄膜材料的研究與中試生產(chǎn)設(shè)備?,F(xiàn)使用單位中科院金屬研究所。


設(shè)計制造了全自動磁控濺射設(shè)備,可加水平磁場和垂直磁場,自行設(shè)計的真空機械手傳遞基片。應(yīng)用于高密度磁記錄材料與器件的研究和中試?,F(xiàn)使用單位國家光電實驗室。


設(shè)計制造了OLED有機半導(dǎo)體發(fā)光材料及器件的研究和中試成套裝備?,F(xiàn)使用單位香港城市大學(xué)先進材料實驗室。


設(shè)計制造了MOCVD及合金退火爐,用于GaN和ZnO的外延生長,實現(xiàn)LED無機半導(dǎo)體發(fā)光材料與器件的研究和中試?,F(xiàn)使用單位南昌大學(xué)國家硅基LED工程技術(shù)研究中心。


設(shè)計制造了磁控濺射研究型設(shè)備?,F(xiàn)使用單位浙江大學(xué)半導(dǎo)體所。


設(shè)計制造了電子束蒸發(fā)儀研究型設(shè)備?,F(xiàn)使用單位武漢理工大學(xué)。

團隊在第三代半導(dǎo)體裝備及工藝方面的技術(shù)積累


2001年 與南昌大學(xué)合作

設(shè)計了中試型的全自動化監(jiān)控的MOCVD,用于外延GaN和ZnO。


2005年 與浙江大學(xué)光學(xué)儀器國家重點實驗室合作

設(shè)計制造了第一臺完全自主知識產(chǎn)權(quán)的分子束外延設(shè)備,用于外延光電半導(dǎo)體材料。


2006年 與中國科技大學(xué)合作

設(shè)計設(shè)計超高溫CVD 和MBE。

用于4H晶型SiC外延生長。


2007年 與蘭州大學(xué)物理學(xué)院合作

設(shè)計制造了光學(xué)級金剛石生長設(shè)備(采用熱激發(fā)技術(shù)和CVD技術(shù))。


2015年 中科院金屬研究所沈陽材料科學(xué)國家(聯(lián)合)實驗室合作

制造了金剛石外延設(shè)備,制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導(dǎo)電金剛石薄膜。


2017年

-優(yōu)化Rheed設(shè)計,開始生產(chǎn)型MBE設(shè)計。

-開始研制PVD方法外延GaN的工藝和裝備,目前正在進行設(shè)備工藝驗證。


2019

設(shè)計制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產(chǎn)設(shè)備。


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