一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

（一）、內(nèi)部結(jié)構(gòu)

   X熒光光譜測(cè)厚儀機(jī)型很多，但是其內(nèi)部結(jié)構(gòu)如果先天不足，后期的外部結(jié)構(gòu)無(wú)論自動(dòng)化多高，也無(wú)法完全滿足客戶需求。內(nèi)部結(jié)構(gòu)重要的3點(diǎn)：

1、X熒光發(fā)射和CCD觀測(cè)是否同步和垂直？

2、測(cè)試樣品是否可以變化測(cè)頭到樣品的距離？

3、X光照射面積從出口到樣品的擴(kuò)散情況。

（二）、各種內(nèi)部結(jié)構(gòu)的優(yōu)缺點(diǎn)

   1、X熒光發(fā)射和CCD觀測(cè)樣品只有同步且垂直才不會(huì)因?yàn)闃悠返母叩蜕顪\變化而改變測(cè)試到樣品的位置，才能保證定位精準(zhǔn)，同時(shí)減少與探測(cè)器或計(jì)數(shù)器的夾角，夾角小測(cè)試時(shí)

受樣品曲面或者傾斜影響小。

2、測(cè)試樣品距離可變化才能測(cè)試高低不平帶凹槽的樣品工件，同時(shí)也兼顧好平面樣品的測(cè)試。但是它需要配備變焦鏡頭和變焦

補(bǔ)償射線的算法。

3、X光照射面積從出口到樣品的擴(kuò)散過(guò)于嚴(yán)重會(huì)導(dǎo)致無(wú)法測(cè)試樣品工件上較小的平面位置，如果減小出口（準(zhǔn)直器直徑），又會(huì)嚴(yán)重耗損X光的強(qiáng)度。

因此一臺(tái)此類(lèi)儀器的小準(zhǔn)直器不是關(guān)鍵，但是測(cè)試面積卻是個(gè)重要的指標(biāo)。

一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

上照式：通常都有Z軸可移動(dòng)，所以可對(duì)形狀復(fù)雜的樣品（如凹面內(nèi)）做定位并且測(cè)試，一般可定位到2mm以?xún)?nèi)的深度，如Thick800A，另外有些廠商在此基礎(chǔ)上配備了可變焦裝置，搭配先進(jìn)的算法，可定位到80mm以?xún)?nèi)的深度，如XDL237

下照式：通常都沒(méi)有Z軸可移動(dòng)，所以不可對(duì)凹面等無(wú)法直接接觸測(cè)試窗口的位置進(jìn)行定位并測(cè)試，但操作簡(jiǎn)單，造價(jià)相對(duì)低；部分廠商或款式儀器搭載變焦裝置也可測(cè)試復(fù)雜形狀樣品，同時(shí)也抬高了價(jià)格

江蘇一六儀器   X射線熒光光譜儀XTU/X-RAY系列 

技術(shù)參數(shù)

X射線裝置：W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管

準(zhǔn)直器φ 0.05 mm  ；φ 0.1 mm；φ 0.2 mm；φ 0.5 mm； 準(zhǔn)直器任意選擇或者任意切換

近測(cè)距光斑擴(kuò)散度：9%

測(cè)量距離：具有距離補(bǔ)償功能，可改變測(cè)量距離，能測(cè)量凹凸異型樣品，變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)

樣品觀察：1/2.5彩色CCD，變焦功能對(duì)焦方式高敏感鏡頭，手動(dòng)對(duì)焦

放大倍數(shù)：光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍

隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片：十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um 

其它附件：聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱