江蘇一六儀器  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

性能優(yōu)勢(shì)：

   下照式設(shè)計(jì)：可以快速方便地定位對(duì)焦樣品。

   無(wú)損變焦檢測(cè):可對(duì)各種異形凹槽進(jìn)行無(wú)損檢測(cè)，凹槽深度范圍0-90mm。

   微聚焦射線裝置：可檢測(cè)面積小于0.002mm2的樣品，可測(cè)試各微小的部件。

   jie shou 器：即使測(cè)試0.01mm2以下的樣品，幾秒鐘也能達(dá)到穩(wěn)定性。

   EFP先進(jìn)算法軟件：多層多元素，甚至有同種元素在不同層也難不倒EFP算法軟件。

統(tǒng)計(jì)計(jì)算功能平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差、max值、min值、數(shù)據(jù)變動(dòng)范圍、CP、數(shù)據(jù)編號(hào)、CPK、控制上限圖、控制下限圖數(shù)據(jù)分組、X-bar/R圖表直方圖數(shù)據(jù)庫(kù)存儲(chǔ)功能

-系統(tǒng)安全監(jiān)測(cè)功能Z軸保護(hù)傳感器樣品室門開閉傳感器操作系統(tǒng)多級(jí)密碼操作系統(tǒng):操作員、分析員、工程師-任選軟件統(tǒng)計(jì)報(bào)告編輯器允許用戶自定義多媒體報(bào)告書液體樣品分析，如鍍液中的金屬元素含量材料鑒別和分類檢測(cè)材料和合金元素分析檢測(cè)。

江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)與海內(nèi)外多名專家通力合作，研究開發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀。波長(zhǎng)色散型譜線分辨本領(lǐng)高，而能量色散型可同時(shí)測(cè)量多條譜線的能量。穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

目前，金屬鍍層常用的分析方法有濕化學(xué)電解分析、輝光放電---發(fā)射光譜分析（GD-OES）和X射線熒光光譜儀等。濕化學(xué)電解分析需選用適當(dāng)溶劑溶解選定的鍍層，逐層溶解并進(jìn)行測(cè)定，方法準(zhǔn)確但費(fèi)時(shí)費(fèi)力，尤其是相關(guān)特定溶劑的選擇也非常復(fù)雜，價(jià)格又貴，屬于典型破壞性樣品檢測(cè)，測(cè)量手段手段繁瑣，速度慢，電解液耗損大，目前一般很少應(yīng)用。GD-OES方法用惰性原子逐層轟擊及剝離試樣表層，再用發(fā)射光譜測(cè)定，這種方法可實(shí)現(xiàn)剖面或逐層分析，但測(cè)量重復(fù)性并不理想。對(duì)于樣品可進(jìn)行連續(xù)多點(diǎn)測(cè)量，適合分析鍍層的厚度分布情況，并可以對(duì)樣品的復(fù)雜面進(jìn)行測(cè)量。

    一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

   元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

   一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

     X射線熒光光譜測(cè)厚儀   X射線的產(chǎn)生  

X射線波長(zhǎng)略大于0.5納米的被稱作軟X射線。波長(zhǎng)短于0.1納米的叫做硬X射線。

產(chǎn)生X射線的簡(jiǎn)單方法是用加速后的電子撞擊金屬靶。撞擊過(guò)程中，電子突然減速，其損失的動(dòng)能(其中的1%)會(huì)以光子形式放出，形成X光光譜的連續(xù)部分，稱之為制動(dòng)輻射。通過(guò)加大加速電壓，電子攜帶的能量增大，則有可能將金屬原子的內(nèi)層電子撞出。于是內(nèi)層形成空穴，外層電子躍遷回內(nèi)層填補(bǔ)空穴，同時(shí)放出波長(zhǎng)在0.1納米左右的光子。將分光晶體和探測(cè)器裝在測(cè)角儀上，使它在一定角度范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，一次測(cè)量不同波長(zhǎng)長(zhǎng)譜線的強(qiáng)度，使用這種形式的光譜儀稱為順序掃描式光譜儀。由于外層電子躍遷放出的能量是量子化的，所以放出的光子的波長(zhǎng)也集中在某些部分，形成了X光譜中的特征線，此稱為特性輻射。