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鎂合金微弧氧化表面要求近期行情,日照微弧氧化工藝

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發(fā)布時(shí)間:2020-10-22 07:39  






溫度對(duì)微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽(yáng)極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。微弧氧化電源因電壓要求較高(一般在510—700V之間),需專門定制。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會(huì)形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過(guò)程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過(guò)程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源


微弧氧化電解液組成及工藝條件

      微弧氧化電解液組成:K2SiO3 5~10g/L,Na2O2 4~6g/L,NaF 0.5~1g/L,CH3COONa 2~3g/L,Na3VO3 1~3g/L;處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強(qiáng)的導(dǎo)電性,且能量集中,溫度較高,是一個(gè)高熱、高溫的能源。溶液pH為11~13;溫度為20~50℃;陰極材料為不銹鋼板;電解方式為先將電壓迅速上升至300V,并保持5~10s,然后將陽(yáng)極氧化電壓上升至450V,電解5~10min。

       兩步電解法,靠前步:將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化5min;第二步:將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化15min。陰極材料為:不銹鋼板;微弧氧化的工藝參數(shù)微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓,一般說(shuō)最終電壓決定微弧氧化膜的厚度,它是不斷升高而達(dá)到的,不能一次性加至最終電壓。溶液溫度為20~度為20~50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線


微弧氧化技術(shù)的優(yōu)勢(shì)

       采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁鎂鈦等輕金屬及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理,微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強(qiáng),絕緣性好,膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化電解液電解液抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高,因而對(duì)環(huán)境污染小,區(qū)別于傳統(tǒng)的電鍍非常環(huán)保,也符合我國(guó)可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略的需要。如,航空、航天、汽車、船舶、機(jī)械、石油、化工、醫(yī)用、電子等行業(yè)。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化工藝


微弧氧化技術(shù)應(yīng)用前景

      微弧氧化技術(shù)具有很多優(yōu)點(diǎn),如工藝簡(jiǎn)單、不引入有毒物,符合當(dāng)今清潔生產(chǎn)發(fā)展的要求,對(duì)要處理的零件形狀沒(méi)有特殊要求,特別是對(duì)異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強(qiáng)于其他表面陶瓷化工藝,因此微弧氧化技術(shù)在軍事、航空、航天、鐵路、機(jī)械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。采用微弧氧化技術(shù)所制備的陶瓷膜同時(shí)具備了陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點(diǎn),可以部分替代陽(yáng)極氧化膜和陶瓷噴涂的產(chǎn)品。微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對(duì)氧化膜的厚度、結(jié)構(gòu)與性能的影響方面。


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