真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點。

表離子鍍的種類及其特點

種類蒸發(fā)源離化方法工作環(huán)境特點用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結(jié)構(gòu)簡單，膜層結(jié)合力強，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，利于提高質(zhì)量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應氣體離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵法電阻、電子束射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應氣體離化率高，膜層結(jié)合力強，鍍件溫升低，但分散性差光學、半導體等鍍件

電場蒸發(fā)法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結(jié)合力強電子元件

活性反應法電子束二次電子dc:200v反應氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機鍍膜的塑料材料如何挑選

真空鍍膜機技術(shù)的不斷發(fā)展，使很多原來不能鍍膜的材料也得以實現(xiàn)鍍膜，但仍有一部分材料并未研發(fā)出解決方案，但我非常期待，因為科技是無窮的，很多以前不敢想象的技術(shù)，現(xiàn)在都實現(xiàn)了，將來必須會出現(xiàn)新的一頁。

對于真空鍍膜機的技術(shù)，塑料也是可以鍍膜的了，這是一種技術(shù)性的發(fā)展，但不是所有的塑料都可以用真空鍍膜機進行鍍膜的，因為塑料本身所帶有的某些特性是目前的鍍膜技術(shù)仍未可解決的。

那么什么樣的塑料才能用真空鍍膜機鍍膜呢，歸納起來，可以分三點來挑選。

首先，塑料本身和所鍍膜層之間要有一定的親和力，只有膜層與工件緊密的結(jié)合在一起，才能不易脫落，壽命長久，有些塑料沒辦法和臘層很好的結(jié)合在一起，研究人員發(fā)現(xiàn)在塑料表面先涂上一層便于膜層緊密結(jié)合的涂料，這樣就解決了附著力的問題，但這種涂料在與膜層能加強結(jié)合外，現(xiàn)時也要和塑料加強結(jié)合，同時滿足這兩種條件的涂料也不是說那么容易找到，只有一部分的塑料可以找到相應的涂料，但有部分塑料始終還未找到，而這些塑料就不能用真空鍍膜機鍍膜了。

其次，塑料本身必定會含有一些揮發(fā)性的雜質(zhì)，隨著溫度的上漲，會揮發(fā)逸出，但作為可以鍍膜的工件，所能忍受的揮發(fā)物質(zhì)是有限的，所以在挑選塑料材料作真空鍍膜時，要選擇放氣量少的，這樣對于真空鍍膜機運作時的真空度影響也可以采取措施使其受到控制，如果大量的話就會控制不到而使真空度下降，影響鍍膜質(zhì)量。

最后就是塑料受熱的穩(wěn)定性，塑料受到廣泛使用就是因為其可以在加溫的狀態(tài)下按照設(shè)計者的意愿塑造出想要的形象，這就是受熱變形，但在真空鍍膜機的鍍膜時的環(huán)境下，必定產(chǎn)生一定的溫度，

如果塑料受熱不穩(wěn)定就會變形，即使鍍的膜層再好，工件已經(jīng)變形，又有什么用呢，所以對于塑料材料的鍍膜，都會使用產(chǎn)生的熱量低于工件熔點的真空鍍膜機，但有些塑料熔點實在在低的，目前的技術(shù)仍未解決，所以這些塑料都不適合真空鍍膜機的鍍膜。

PACVD硬質(zhì)涂層真空鍍膜機系統(tǒng)的特點：

（1）2個等離子激發(fā)源（射頻，直/直流脈沖）（2）安裝在兩邊的2閉合場非平衡磁控管濺射（3）帶有一個前門的六角形真空室，保證一個潔凈的環(huán)境（4）干式真空系統(tǒng)設(shè)計安裝在一個單獨的空間，處理高吞吐量的碳氫化合物和其他工藝氣體（5）基材和導電與非導電涂層及組合原位清洗的離子激發(fā)系統(tǒng)（6）可選擇的等離子體激發(fā)模式和頻率使等離子的密度和能量適應基材增壓特性，以小壓強進行電離作用（8）單獨的PACVD工藝中不強制轉(zhuǎn)動的時候，一種行星式轉(zhuǎn)動也能夠使濺射涂層統(tǒng)一沉積（9）特別是在PACVD過程特殊設(shè)計的進氣系統(tǒng)能夠優(yōu)化涂層的均勻性和清潔度（10）泵的選擇編排和上下的蒸汽壓力調(diào)節(jié)，保證了涂層系統(tǒng)的高可靠性（11）iFIX基礎(chǔ)的控制系統(tǒng)，易于批次、配方和報警處理（12）所有數(shù)據(jù)的采集，保證良好的過程控制。工藝過程中定制曲線圖做到良好檢查方案。在批次運行過程中，操作者也可更改或新建工藝（13）用戶可自行設(shè)置進入控制系統(tǒng)的權(quán)限，以保證系統(tǒng)的質(zhì)量和安全性

多弧離子真空鍍膜機發(fā)展歷程及特點

20世紀70年代以來，隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對材料的綜合性能要求不斷提高，單一材料性能已經(jīng)不能滿足某些特征環(huán)境下工作機械的性能要求。離子真空鍍膜機鍍膜技術(shù)通過物理作用，使基體表面沉積出薄膜，在美觀的同時又有效提高鍍件的物理化學性能，從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術(shù)是當今使用面廣、先進的表面處理技術(shù)之一。據(jù)統(tǒng)計，國內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術(shù)，特別適用于對耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場合。80年代后期，國內(nèi)外相繼開發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等，使離子鍍技術(shù)進入了一個新階段.

近年來，離子真空鍍膜機的自動化程度得到了較快發(fā)展，國外的設(shè)備采用智能一體化控制系統(tǒng)，可精準計算和控制鍍膜過程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關(guān)鍵性參數(shù)。國內(nèi)真空離子鍍膜機的自動化程度也有了一定的發(fā)展，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和精準性方面尚需提升，設(shè)備依賴進口。同時多弧離子鍍膜機低端產(chǎn)品市場存在供大于求的情況，價格競爭較為激烈。